[实用新型]测量光源和用于检测反射光谱的测量系统有效

专利信息
申请号: 201721111580.7 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN207778340U 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 约尔格·马格拉夫;托马斯·科伊内 申请(专利权)人: 卡尔蔡司光谱学有限公司
主分类号: F21V7/00 分类号: F21V7/00;G01N21/47;G01N21/57;G01J3/10
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 杨靖;车文
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 空心体 光源 测量系统 反射光谱 光射出 照明腔 本实用新型 测量 凹面镜 光成形 光出口 漫反射 凹面镜形状 参考测量 检测样品 空间照度 内面反射 凹状光 测量光 反射盘 射出腔 检测 凹状 内面 腔内 反射 穿过 外部
【说明书】:

实用新型涉及一种测量光源和用于检测反射光谱的测量系统。用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光的测量光源包括空心体(01),其具有漫反射的内面。在空心体中布置有凹面镜形的凹状照明腔(04)、管状的光成形腔(06)和凹面镜形的凹状光射出腔(07),它们具有共同的轴线(03)。用于产生光的光源(08)至少部分布置在照明腔中。光射出腔具有光出口(14)。照明腔和光射出腔用它们的凹面镜形状相对而置且通过光成形腔连接。在空心体中布置有用于使被空心体的布置在光射出腔内的内面反射的光穿过光出口向空心体的外部反射的漫反射的反射盘(11)。此外,本实用新型还涉及一种用于检测样品的绝对反射光谱和用于执行参考测量的测量系统。

技术领域

本实用新型涉及一种用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光的测量光源。本实用新型还涉及一种用于检测样本的绝对反射光谱和用于执行参考测量(Referenzmessung)的测量系统。该测量系统尤其用于在生产过程中对表面进行光谱探查,以便例如确定表面的颜色或光泽。

背景技术

DE 10 2011 050 969 A1示出了一种用于参考式测量经反射的光的设备,该设备具有空心体,该空心体在其内部具有漫散射的层以及具有光射出开口。该设备能从测量位置转换到校准位置,由此使光射出开口从第一探测轴线进入第二探测轴线。

由DE 10 2010 041 749 A1公知了一种测量装置,其具有沿纵向方向延伸的空腔,该空腔具有朝向样品的开口和许多沿着纵向方向布置的开口。另外的开口被用于光的耦合入。

US 6,422,718 B1、DE 34 31 367 A1和DE 20 2008 012 222 U1以各种实施形式示出了测量光源。

DE 10 2013 219 830 A1教导了一种用于在漫射照明下进行反射测量的光学的设备,该设备包括空心体,空心体具有在其内部的散射光的表面以及具有光射出开口。光射出开口具有旋转对称的形状。

为了检测绝对反射光谱,由现有技术公知了所谓的VW系统和VN系统,通过它们确保参考测量和在样品处的测量仅通过在样品处的反 射来区分开。

DE 10 2014 215 193 A1示出了一种用于检测样品的绝对反射光谱的测量系统。该测量系统包括光源和用于产生测量光的均匀的空间照度分布的均化器。该测量系统还包括能运动的反射器和接收器。反射器与光源布置在样品的同一侧上。均化器优选由乌布利希球、由乌布利希管或由球-柱体结构形成。在该测量系统中,在样本间距发生变化时或在发生样品歪斜时,乌布利希球导致了绝对测量的测量误差大于1%,这对很多应用来说都太高了。但在实验室条件之外,特别是在生产过程中的在线测量的情况下,就无法避免样本间距变化和样品歪斜。

实用新型内容

基于现有技术,本实用新型的任务在于,相比能用乌布利希球产生的测量光提高测量光的空间照度分布的均匀性,以便能够用较少耗费进行对绝对反射光谱的精确测量。

所述的任务通过根据本实用新型的测量光源解决,所述测量光源包括空心体,所述空心体具有漫反射的内面,在所述空心体中构造有凹面镜形的凹状的照明腔、管状的光成形腔和凹面镜形的凹状的光射出腔,它们具有共同的轴线,其中,用于产生光的光源至少部分布置在所述照明腔中,其中,所述光射出腔具有光出口,并且其中,所述照明腔和所述光射出腔用它们的凹面镜形状相对而置且通过所述管状的光成形腔连接,其特征在于,在空心体中布置有用于使被所述空心体的布置在所述光射出腔内的内面反射的光穿过所述光出口向所述空心体的外部反射的漫反射的反射盘。

所述的任务还通过根据本实用新型的并列的两种测量系统解决。

其中一种用于检测样品的绝对反射光谱和用于执行参考测量的测量系统包括:

-根据本实用新型的测量光源;

-用于接收测量光的光学的接收器,所述光学的接收器与所述测量光源对置布置;

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