[实用新型]翻转型研磨抛光机的上下导轨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及研磨抛光机技术领域，尤其涉及一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置。

背景技术

抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在研磨机磨盘上的海绵、抛光布、抛光砂轮、树脂研磨盘等研磨材料旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在10-60r/min，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。然后现有的翻转型研磨抛光机在翻转时，需要先向上移动一定的距离后进行翻转，但现有的翻转型研磨抛光机是通过齿轮组合使得上模座向上移动的，存在精准度低、上升过程不稳定且控制麻烦的缺点。

实用新型内容

本实用新型为解决现有的翻转型研磨抛光机上升时不稳定、精准度低技术问题，提供了一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置。

本实用新型提供了一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，包括上模座；所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构及用于控制上下导轨装置运作的控制机构，所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨，所述副导轨机构包括一组平行设置的第二导轨。

进一步地，所述主导轨机构还包括与上模座连接以驱使上模座翻转的旋转动力件、用于固定安装旋转动力件且连接安装于所述第一导轨上的第一固定座及用于驱动第一固定座沿第一导轨定向移动的第一动力件。

进一步地，所述旋转动力件的输出端通过第一固定座后与上模座连接。

进一步地，所述旋转动力件及第一动力件采用电机或气缸。

进一步地，所述副导轨机构还包括与上模座连接以支撑固定上模座的支撑轴及用于安装支撑轴的第二固定座。

进一步地，所述副导轨机构还包括用于驱动第二固定座沿第二导轨定向移动的第二动力件。

进一步地，所述支撑轴通过轴承与第二固定座连接。

进一步地，所述第二动力件采用电机或气缸。

进一步地，所述主导轨机构还包括用于固定安装第一导轨的第一基座。

进一步地，所述副导轨机构还包括用于固定安装第二导轨的第二基座。

本实用新型的有益效果是：本实用新型实施例通过在上模座两侧设置主导轨机构和副导轨机构，通过主导轨机构设有的第一导轨和副导轨机构设有的第二导轨的配合使用，能够使得上模座平稳上升、不出现摇晃的现象；通过，通过第一导轨和第二导轨的作用，也能使得上模座在上升中，精准的停留在预设位置上；及在下降时，也能精准的与下模座连接；便于后续的抛光研磨操作。

附图说明

图1为本实用新型翻转型研磨抛光机的上下导轨装置一实施例的立体图。

图2为本实用新型翻转型研磨抛光机的上下导轨装置另一实施例的立体图。

图3为本实用新型翻转型研磨抛光机的上下导轨装置一实施例的主视图。

图4为本实用新型翻转型研磨抛光机的上下导轨装置一实施例的右视图。

图5为本实用新型翻转型研磨抛光机的上下导轨装置一实施例的左视图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。