[实用新型]一种光隔离器

说明书

技术领域

本实用新型属于光通讯领域，具体涉及一种光隔离器。

背景技术

光隔离器是一种只允许单向光通过的无源光器件，其工作原理是基于法拉第旋转的非互易性。通过光纤回波反射的光能够被光隔离器很好的隔离。

目前，光隔离器中永磁体主要使用钕铁硼磁铁，隔离芯的偏振片主要使用玻璃基板偏振片。由于玻璃基板的偏振片的厚度较厚，通常会达到200um，法拉第片的厚度通常在300um到550um之间，就导致光隔离器芯片core(光隔离器Core，指光隔离器的核心部件) 整体厚度达到720um以上，进而导致光隔离器体积大，成本比较高。而钕铁硼中铁的含量很高，所以容易被氧化腐蚀，使用寿命很大程度上决定于镀层的效果。同时钐钴磁铁具有高磁能积、极低的温度系数，最高工作温度可达350℃，在工作温度180℃以上时，其及温度稳定性和化学稳定性均超过钕铁硼永磁材料。

中国专利CN203241653U公开了一种安装在To-can激光器内部的光隔离器，该光隔离器包括隔离芯、外封管和磁块。隔离芯设置在磁块内，外封管通过胶合剂与磁块进行固定。磁块包括一通孔，通孔上包括第一拐角和第二拐角，第一拐角和第二拐角均为平滑的弧形拐角。该隔离器通过在磁块的通孔设置平滑的弧形拐角解决了隔离芯与磁块装配使用胶合剂剂量过多的影响，但是该隔离器未切断磁块与空气的接触，进而导致磁块容易被氧化腐蚀，同时该隔离器设置的外封管加大了隔离器的体积，增加了装配的难度，提高了制造的成本。

实用新型内容

本实用新型的所要解决的技术问题在于，现有技术中光隔离器中磁块容易被氧化腐蚀，且体积大，成本高。进而提供一种耐腐蚀，耐盐雾，体积小，成本低且易装配的光隔离器。

为了解决上述技术问题，提供一种光隔离器，包括磁块和隔离芯，

所述磁块沿轴向设置贯通的豁口，用于放置所述隔离芯，所述磁块表面设置有厚度为0.005-0.012mm的光亮镍层；

所述隔离芯沿所述磁块轴向的长度为0.35-0.56mm，其包括法拉第片和分别设置在所述法拉第片入光面和出光面的聚合物薄膜，其中设置于所述入光面的聚合物薄膜偏振方向平行于所述豁口开口所在的平面，设置于所述出光面的聚合物薄膜偏振方向与所述入光面的聚合物薄膜偏振方向夹角为45度。

优选的，所述豁口的底部设置弧形槽，所述弧形槽的延伸方向与所述豁口延伸方向一致。

优选的，所述弧形槽的横截面为圆弧形或U形。

优选的，所述弧形槽设置有两个，分别位于所述豁口的两壁面的交会处。

优选的，所述豁口沿所述磁块径向宽度为0.45mm。

优选的，所述聚合物薄膜为具备偏振性能的银离子聚合物薄膜或铜离子聚合物薄膜。

优选的，所述聚合物薄膜的厚度为20-100μm。

优选的，在所述法拉第片与所述聚合物薄膜之间还设置有增透膜。

本实用新型的技术方案，具有如下优点：

本实用新型提供的光隔离器，包括磁块和隔离芯，隔离芯的厚度为0.35-0.56mm，使得光隔离器整体的体积小。同时隔离芯厚度变薄后，光路在隔离芯中的光路漂移小、损耗减小，降低了生产光隔离器的成本，满足了目前光通讯行业对于小型光隔离器的需求。

本实用新型提供的磁块，在豁口内表面设置了两个弧形槽口，通过将胶合剂灌注在弧形槽口中，解决了隔离芯与磁块之间由于胶合剂剂量不足导致的粘贴不牢固的问题。同时，由于胶合剂灌注在弧形槽口中，使得隔离芯装配进磁块的操作更便捷，效率更高，降低了清洁的难度，外观检验更简便。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式的技术方案，下面将对具体实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例中所提供的光隔离器的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中所提供的磁块的结构示意图；

图3为本实用新型实施例中所提供的隔离芯的结构示意图。

附图标记：100-磁块，101-豁口，102a-第一弧形槽口，102b-第二弧形槽口，200-隔离芯，201-法拉第片，202a-第一聚合物薄膜，202b- 第二聚合物薄膜。

具体实施方式