[实用新型]一种背照式级联倍增雪崩光电二极管有效

专利信息
申请号: 201721147883.4 申请日: 2017-09-08
公开(公告)号: CN207165584U 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 李倩;李沫;陈飞良;康健彬;王旺平;黄锋;张晖;张健 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院电子工程研究所
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/0352;H01L31/107
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙)51211 代理人: 蒋斯琪
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 背照式 级联 倍增 雪崩 光电二极管
【权利要求书】:

1.一种背照式级联倍增雪崩光电二极管,其特征在于:在衬底上设置有缓冲层,缓冲层上设置有n型掺杂AlxGa1-xN层(2),n型掺杂AlxGa1-xN层(2)上面设置有一突起台面,突起台面上自下而上依次设置有i型周期级联倍增层(3)、i型本征吸收层(4)及p型电极层(5);所述突起台面的周围设置有光耦合汇聚结构;所述n型掺杂AlxGa1-xN层(2)的下沉台面上沉积有n型欧姆接触层(8),p型电极层(5)上沉积p型欧姆接触层(9)。

2.根据权利要求1所述的背照式级联倍增雪崩光电二极管,其特征在于:所述i型周期级联倍增层(3)为Ⅲ族氮化物的超晶格,材质为InyGa1-yN或AlyGa1-yN,其中0≤y≤1,i型周期级联倍增层(3)的厚度为0.001~1μm。

3.根据权利要求1所述的背照式级联倍增雪崩光电二极管,其特征在于:所述i型本征吸收层(4)的材质为InzGa1-zN或AlzGa1-zN,其中0≤z≤1,i型本征吸收层(4)的厚度为0.001~1μm。

4.根据权利要求1所述的背照式级联倍增雪崩光电二极管,其特征在于:所述光耦合汇聚结构是由光栅结构组成,包括沉积于n型掺杂AlxGa1-xN层(2)的下沉台面上的介质层和介质层上刻蚀形成的光栅;所述光耦合汇聚结构的垂直高度对应于i型周期级联倍增层(3)。

5.根据权利要求4所述的背照式级联倍增雪崩光电二极管,其特征在于:所述介质层的材质为Au、Ag、SiN、或SiO2

6.根据权利要求1或4所述的背照式级联倍增雪崩光电二极管,其特征在于:所述光耦合汇聚结构的线宽为s、周期为p、厚度为h1,周期p为探测波长的十分之一到十分之十,线宽s为探测波长的十分之一到十分之十,厚度h1大于或等于以微米为单位的探测波长的平方根的0.0096倍。

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