[实用新型]一种烧成窑胴体温度扫描装置

权利要求书

1.一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的烧成窑胴体温度扫描装置包括水平导向轨、圆弧导向轨、承载机架、行走机构、循环降温管、降温系统、温度传感器、滑块及控制系统，所述的水平导向轨至少两条，各水平导向轨均与烧成窑轴线平行分布并环绕烧成窑轴线均布在烧成窑内壁上，所述的承载机架至少一个，为与烧成窑同轴分布的框架结构，嵌于烧成窑内并通过滑块与水平导向轨滑动连接，所述的圆弧导向轨安装在承载机架上，并为与烧成窑同轴分布的圆弧状结构，所述的圆弧导向轨通过滑块与若干温度传感器相互连接，且每个滑块上均设一个温度传感器，同一圆弧导向轨上的各温度传感器均环绕圆弧导向轨轴线均布，所述的滑块后表面设至少一个行走机构，并通过行走机构分别与水平导向轨、圆弧导向轨滑动连接，所述的循环降温管至少三条，并分别嵌于水平导向轨、圆弧导向轨、承载机架内，各循环降温管间相互并联并分别与降温系统相互连接，所述的降温系统和控制系统均位于烧成窑外表面，其中所述控制系统分别与行走机构、降温系统、温度传感器电气连接。

2.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的水平导向轨、圆弧导向轨横端面为“工”字型结构、“T”字型结构、“凵”字型结构圆环结构中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的水平导向轨、圆弧导向轨、承载机架与循环降温管间接触面面积为循环降温管外表面面积的70% —100%。

4.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的温度传感器轴线与烧成窑轴线相互垂直分布并相交。

5.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的行走机构为液压驱动机构、丝杠机构、齿轮齿条机构中的任意一种。

6.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的降温系统的降温介质为去离子水、惰性气体中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的控制系统为基于FPGA系统的自动控制系统，且所述的控制系统另设串口通讯端子电路及无线通讯电路。

8.根据权利要求1所述的一种烧成窑胴体温度扫描装置，其特征在于：所述的承载机架为两个或两个以上时，相邻两个承载机架间间距为烧成窑有效长度的1/10—1/3。