[实用新型]一种显微镜支架的抛光装置

说明书

本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种显微镜支架的抛光装置。本实用新型采用的技术方案是：一种显微镜支架的抛光装置，包括底座，底座上设有支架，支架上设有抛光机构和纵向调节机构，抛光机构包括抛光头，纵向调节机构包括导轨、滑座，滑座设置于导轨上，滑座与抛光机构连接，底座上设有固定机构，固定机构包括固定座，固定座的顶端设有固定卡盘，固定座的下方与电机轴连接，抛光头包括研磨本体和背绒层，研磨本体为多孔隙状结构，研磨本体的中心具有穿孔，背绒层设置在研磨本体的表面，并环绕于所述穿孔的周围。本实用新型的优点是：结构合理，抛光效果好，可以降低工作人员的工作强度，提高工作效率。

技术领域

本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种显微镜支架的抛光装置。

背景技术

显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，是人类进入原子时代的标志。显微镜主要用于放大微小物体成为人的肉眼所能看到的仪器，在使用显微镜时需要用到显微镜支架。显微镜支架制作完成后，表面难免会存在毛刺，因此，需要对其表面进行抛光处理。现有的用于对显微镜支架表面进行处理的装置，结构简单，功能也相对比较单一，不仅抛光效果不好，而且工作人员的工作量大，工作效率低，不能满足使用需求。因此，应该提供一种新的技术方案解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种结构合理，使用效果好的显微镜支架的抛光装置。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种显微镜支架的抛光装置，包括底座，所述底座上设有支架，所述支架上设有抛光机构和纵向调节机构，所述抛光机构包括抛光头，抛光头与转轴的一端连接，转轴的另一端与电动机连接，所述纵向调节机构包括导轨、滑座，所述导轨沿竖直方向设置在支架的一侧，所述滑座设置于导轨上，所述滑座与抛光机构连接，所述底座上设有用于固定显微镜支架的固定机构，所述固定机构包括固定座，所述固定座的顶端设有固定卡盘，所述固定座的下方与设置在底座下侧的电机的电机轴连接，所述抛光头包括研磨本体和背绒层，所述研磨本体为多孔隙状结构，所述研磨本体的中心具有穿孔，所述背绒层设置在研磨本体的表面，并环绕于所述穿孔的周围。

进一步的技术方案：

纵向调节机构还包括驱动气缸，所述驱动气缸的下端与滑座连接。

所述固定卡盘为三爪卡盘。

所述背绒层为绒布材料或化纤材料。

背绒层的外缘朝所述研磨本体的外缘延伸形成延伸部。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

1、本实用新型的显微镜支架的抛光装置，结构合理，纵向调节机构可以用来精确调节抛光机构的位置，固定机构可以用来精确调节显微镜支架的位置，两者的配合可以提高整个抛光装置的抛光效果，还可以降低工作人员的劳动强度，提高工作效率。

2、本实用新型的显微镜支架的抛光装置，在研磨本体的表面设置背绒层，且背绒层环绕于穿孔的周围，可通过背绒层强化研磨本体附着在转轴上的附着力，由此可降低因高速转动而造成抛光体提早损坏。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图2为抛光头结构示意图。

以上附图中：1、底座，2、支架，3、抛光头，3-1、研磨本体，3-2、背绒层，3-3、穿孔，4、转轴，5、电动机，6、导轨，7、滑座，8、固定座，9、固定卡盘，10、电机，11、驱动气缸。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

实施例一：