[实用新型]一种光刻掩膜版有效

专利信息
申请号: 201721152567.6 申请日: 2017-09-11
公开(公告)号: CN207249352U 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 潘建英;王成森;沈怡东;钱如意;沈广宇 申请(专利权)人: 捷捷半导体有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 卢海洋
地址: 226200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 掩膜版
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及半导体芯片制造及晶圆加工领域,尤其是一种光刻掩膜版。

背景技术

目前,光刻掩膜版广泛应用于半导体芯片制造过程中,光刻掩膜版是光刻工序制取所需窗口的重要工装之一,且光刻掩膜版为易耗品,由于量产需要,这就使得同一图形的光刻掩膜版会在线有很多套,无疑对相同图形的光刻版管理带来了难度,然而,一旦用错光刻掩膜版将直接导致产品的报废,风险及高;

同时,其光刻掩膜版本身的制作方法是由图形与其相反的一套母版复制而成,故无法实现每块光刻掩膜版上都刻置出一个唯一编号的条形码(若在线版上制作出条形码的话,只能实现由此块母版复制的所有光刻掩膜版具有相同的条形码,无法实现每块光刻版均有唯一的条形码),再由于光刻掩膜版在使用寿命内需经过多次酸液清洗,一般方法较难实现在光刻版上形成固定的条形码标识,故此,大部分厂家通过每块光刻版固定配备一个光刻版盒,将条形码标识签贴到光刻版盒上作为识别光刻版的唯一标识,由于在使用过程中光刻版需频繁的从光刻版盒中取出、放回,光刻版在放回光刻版盒的过程中较易出错,无法做到彻底防错,故找寻一种能在光刻版上形成条形码的方法成为解决这一问题的关键点,当然,也是一个难点。

实用新型内容

为了解决上述问题,本实用新型提供一种光刻掩膜版。

本实用新型采用的技术方案是:一种光刻掩膜版,包括玻璃基板,预留铬层区,条形码,有效图形铬层区,光刻掩膜版为铬版,铬版为光刻掩膜版由玻璃基板与铬组成,有效图形铬层区位于玻璃基板正面的中间区域,玻璃基板正面边缘、有效图形铬层区的四周设置有预留铬层区,条形码位于预留铬层区一侧中间部位,条形码黑色部分保留铬层本色,预留铬层区内有有效图形铬层区。

进一步地,条形码可位于玻璃基板任何一边,条形码的宽度与预留铬层区宽度一致并符合条形码扫描要求,条形码的长度符合条形码扫描要求。

进一步地,光刻掩膜版的外观边长尺寸为5英寸、6英寸、7英寸或9英寸,光刻掩膜版的厚度为1-10mm。

本实用新型的有益效果是:本实用新型可用于扫描枪直接扫描的条形码,不占用有效图形铬层区,在光刻掩膜版上刻出供扫描枪扫描的标识,可直接实现对光刻掩膜版上条形码扫描将光刻版信息与MES系统及ERP系统就光刻掩膜版唯一身份信息的有效对接,在光刻掩膜版的条形码在光刻掩膜版酸洗过程中失效,更有效的避免出错,且省略了光刻掩膜版频繁装取光刻版盒的过程,大幅提升光刻掩膜版的管理效率及质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中:1、预留铬层区,2、条形码,3、有效图形铬层区,4、玻璃基板。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

一种在光刻掩膜版上刻条形码的方法,包括下列步骤:

(1)在制作光刻掩膜版四周离边沿向内10-30mm区域保留预留铬层区1;

(2)将打印类型选择为条形码打印,所需打印的条码字符输入激光打标机,选择黑白反打方式,设备将自动形成条形码2,不占用有效图形铬层区3;

(3)设定激光泵浦使用电流为7-9A,设定激光频率为1.7-2KHZ,调整好光刻掩膜版位置,利用激光打印产生的激光束高温将光刻掩膜版边沿预留铬层区1中所形成条形码白色部分的铬层熔除,同时条形码黑色部分保留铬层本色,共同形成可直接用于扫描的条形码2。

一种光刻掩膜版,包括玻璃基板4,预留铬层区1,条形码2,有效图形铬层区3,光刻掩膜版为铬版,铬版为光刻掩膜版由玻璃基板4与铬组成,有效图形铬层区3位于玻璃基板4正面的中间区域,玻璃基板4正面边缘、有效图形铬层区3的四周设置有预留铬层区1,条形码2位于预留铬层区1一侧中间部位,条形码2黑色部分保留铬层本色,所述预留铬层区1内有有效图形铬层区3。

条形码2可位于玻璃基板4任何一边,条形码2的宽度与预留铬层区1宽度一致并符合条形码2扫描要求,条形码2的长度符合条形码扫描要求。

光刻掩膜版的外观边长尺寸为5英寸、6英寸、7英寸或9英寸,光刻掩膜版的厚度为1-10mm。

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