[实用新型]一种用于中子静高压实验的密封腔有效

专利信息
申请号: 201721152676.8 申请日: 2017-09-11
公开(公告)号: CN207163939U 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 谢雷;陈喜平;房雷鸣;夏元华;李昊;孙光爱 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心51210 代理人: 翟长明,韩志英
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 中子 高压 实验 密封
【权利要求书】:

1.一种用于静高压中子衍射的密封腔,其特征在于:所述密封腔包括密封腔盖(1)、密封垫圈(2)、卡箍(3)和密封腔底(4);密封腔盖(1)包括密封腔顶板(11)、波纹管(12)和上法兰口(13),密封腔顶板(11)和上法兰口(13)分别与波纹管(12)的上下端连接,上法兰口(13)为密封腔盖(1)的开口端,密封腔顶板(11)为密封腔盖(1)的封闭端;密封腔底(4)包括下法兰口(41)、中子窗(42)、密封腔定位孔(43)和高压腔卡口(44);下法兰口(41)处于密封腔底(4)上端开口处,中子窗口位于下法兰口(41)下方,密封腔定位孔(43)位于密封腔底(4)的底部中心处,高压腔卡口(44)位于密封腔底(4)的底部。

2.根据权利要求1所述的用于静高压中子衍射的密封腔,其特征在于:所述的密封垫圈(2)位于上法兰口(13)和下法兰口(41)之间。

3.根据权利要求1所述的用于静高压中子衍射的密封腔,其特征在于:所述的卡箍(3)为法兰卡箍。

4.根据权利要求1所述的用于静高压中子衍射的密封腔,其特征在于:所述的密封腔盖(1)为圆柱形。

5.根据权利要求1所述的用于静高压中子衍射的密封腔,其特征在于:密封腔定位孔(43)位于密封腔底(4)的圆心。

6.根据权利要求1所述的用于静高压中子衍射的密封腔,其特征在于:高压腔卡口(44)位于密封腔底(4)的圆心。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院核物理与化学研究所,未经中国工程物理研究院核物理与化学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721152676.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top