[实用新型]一种自密封碳化硅晶体生长用坩埚装置有效

专利信息
申请号: 201721155444.8 申请日: 2017-09-11
公开(公告)号: CN207862478U 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 刘鹏飞 申请(专利权)人: 山东天岳晶体材料有限公司
主分类号: C30B13/14 分类号: C30B13/14;C30B29/36
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 赵斌;苗峻
地址: 250118 山东*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 碳化硅晶体 坩埚装置 籽晶轴 自密封 坩埚 本实用新型 开放式设计 保温材料 热量损耗 温度梯度 生长 坩埚盖 挥发 折损 变形 开口 分解 改进
【权利要求书】:

1.一种自密封碳化硅晶体生长用坩埚装置,其特征在于:包括坩埚体、坩埚盖和籽晶轴(1);

其中,坩埚体由坩埚腔体(7)和坩埚腔体保温层(8)组成,坩埚腔体保温层(8)包裹在坩埚腔体(7)外侧;坩埚盖包括内盖和外盖,外盖由位于下层的实体外盖(5)和上层的外盖保温层(6)组成;内盖由位于下层的实体内盖(3)和上层的内盖保温层(4)组成;

籽晶轴(1)上设有直径大于籽晶轴直径、小于内盖下截面直径的圆盘形的籽晶轴平台(2),位于坩埚盖的高度位置以下。

2.根据权利要求1所述的一种自密封碳化硅晶体生长用坩埚装置,其特征在于:坩埚体开口处坩埚腔体(7)和坩埚腔体保温层(8)成连续梯形,与外盖相配合。

3.根据权利要求1所述的一种自密封碳化硅晶体生长用坩埚装置,其特征在于:所述的内盖呈倒圆台形,内盖外侧面与外盖内侧面相配合,坩埚盖盖上后,实体内盖(3)与实体外盖(5)等高,外盖保温层(6)与内盖保温层(4)等高。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东天岳晶体材料有限公司,未经山东天岳晶体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721155444.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top