[实用新型]低辐射镀膜玻璃

权利要求书

1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板和低辐射镀膜，所述低辐射镀膜包括第一电介质层、第一阻挡层、功能银层、第二阻挡层和第二电介质层，所述第一电介质层覆盖于所述玻璃基板上，所述第一阻挡层覆盖于所述第一电介质层上，所述功能银层覆盖于所述第一阻挡层上，所述第二阻挡层覆盖于所述功能银层上，所述第二电介质层覆盖于所述第二阻挡层上。

2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为白玻基板或超白原片基板。

3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层为非金属氮化物层或非金属氧化物层。

4.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层为非金属氮化物层或非金属氧化物层。

5.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层的厚度小于所述第二电介质的厚度。

6.根据权利要求1～5任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层的厚度为25nm～30nm。

7.根据权利要求1～5任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层的厚度为50nm～70nm。

8.根据权利要求1～5任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述功能银层的厚度为5nm～10nm。

9.根据权利要求1～5任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层为镍铬层、氧化镍铬层或氮化镍铬层，且所述第一阻挡层的厚度为1nm～4nm。

10.根据权利要求1～5任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二阻挡层为镍铬层、氧化镍铬层或氮化镍铬层，且所述第二阻挡层的厚度为1nm～4nm。