[实用新型]一种新型电镀槽用循环搅拌装置有效

专利信息
申请号: 201721173863.4 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN207362362U 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: 薛志刚;姚远军;花恒武 申请(专利权)人: 孟州市锐鑫金属表面处理有限公司
主分类号: C25D21/10 分类号: C25D21/10
代理公司: 郑州浩德知识产权代理事务所(普通合伙) 41130 代理人: 王国旭
地址: 454000 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 电镀 循环 搅拌 装置
【说明书】:

本新型涉一种新型电镀槽用循环搅拌装置,包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔,循环腔后端面通过转台机构与承载机架前端面连接,循环腔侧壁上均布至少四个导流口,驱动波轮嵌于循环腔内,射流泵一个通过转台机构安装在循环腔前端面上,另至少一个通过转台机构安装在承载机架内,导流管数量与导流口数量一致,且每个导流口均与一个导流管相互连通,导流管末端与循环腔侧壁铰接,所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。本新型结构简单,使用灵活方便,集成化程度高,搅拌作业效率高且运行成本低廉,有助于对电镀槽内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整,改善及提高电镀作业的效率和质量。

技术领域

实用新型涉及一种电镀槽结构,确切地说是一种新型电镀槽用循环搅拌装置。

背景技术

目前电镀槽在进行电镀作业过程中,电镀槽内电解液的浓度分布对电镀作业时的导电效率、电流分布范围、电极运行性能及运动方向、运动速度等均有着极大的影响,但在实际中发现,电解液在运行过程中,若不施加外力驱动,则极易发生浓度分布不均等现象,从而导致电镀槽内的电流分布随之受到影响,一方面造成电镀作业效率低下,另一方面也导致工件表面电镀层厚度稳定性差,甚至出现局部未实现电镀而局部出现毛刺现象,严重影响了电镀作业顺利开展,为了解决这一问题,当前主要是在电镀槽内增加基于波轮结构的搅拌设备,实现对电镀槽内部的电解液进行搅拌,避免电解液因静置而发生密度分布不均现象,但在实际使用中发现,当前的搅拌设备虽然可以实现驱动电解液运动,但无法对电解液运动的方向进行约束,同时对电解液运动的速度缺乏有效的调整,从而导致电解液在运动时,不能根据电镀作业的需要,有针对性的引导电解液进行运动,从而造成较大的能量损耗,且对提高电镀作业工作效率和质量意义不大,不能有效满足实际使用的需要,因此针对这一问题,迫切需要开发一种新型的电镀槽搅拌装置,以满足实际使用的需要。

实用新型内容

针对现有技术上存在的不足,本实用新型提供一种新型电镀槽用循环搅拌装置,该新型结构简单,使用灵活方便,集成化程度高,搅拌作业效率高且运行成本低廉,可根据使用需要,对电镀槽内的电解液进行多种速度和方向搅拌作业的需要,从而实现根据电镀作业需要,对电解液的循环方向进行灵活调整的目的,有助于对电镀槽内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整,改善及提高电镀作业的效率和质量。

为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:

一种新型电镀槽用循环搅拌装置,包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔,其中承载机架为框架结构,其后端面均布至少四个定位结构,循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构,且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接,循环腔轴线与承载机架前端面垂直分布,循环腔侧壁上均布至少四个导流口,各导流口均与循环腔轴线垂直分布,驱动波轮嵌于循环腔内,并与循环腔同轴分布,射流泵至少两个,其中至少一个通过转台机构安装在循环腔前端面上,另至少一个通过转台机构安装在承载机架内,且各射流泵轴线相互平行分布,并均与循环腔轴线垂直分布,导流管数量与导流口数量一致,且每个导流口均与一个导流管相互连通,导流管末端与循环腔侧壁铰接,所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。

进一步的,所述承载机架与转台机构间通过升降驱动机构相互连接。

进一步的,所述升降驱动机构为丝杠、液压缸及气压缸中的任意一种。

进一步的,所述导流管包括导流板、调节伸缩杆、连接底座,所述的连接底座为闭合环状结构,安装在循环腔侧表面并与导流口同轴分布,所述的导流板至少四个,环绕导流口轴线均布,其末端与连接底座前端面铰接,并与循环腔侧表面呈0°—180°夹角,所述的导流板外表面通过调节伸缩杆前端面铰接,所述的调节伸缩杆末端与连接底座侧表面铰接。

进一步的,所述的导流板长度至少与承载底座半径相同,且当各导流板与循环腔侧壁夹角为0°时,则各导流板将连接底座密封。

进一步的,所述的导流板表面上均布若干导流槽,所述的导流槽深度为导流板厚度的1/4—1/2。

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