[实用新型]一种米浆加工砂盘有效
申请号: | 201721177978.0 | 申请日: | 2017-09-14 |
公开(公告)号: | CN207385586U | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 付延坡;高志祥 | 申请(专利权)人: | 鄂州市兴方磨具有限公司 |
主分类号: | B02C7/08 | 分类号: | B02C7/08;B02C7/12 |
代理公司: | 武汉市首臻知识产权代理有限公司 42229 | 代理人: | 刘牧 |
地址: | 436000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 加工 砂盘 | ||
一种米浆加工砂盘,包括各自呈水平安置的上圆盘和下圆盘,上圆盘固定在加工设备上,下圆盘旋转安置加工设备上,下圆盘位于上圆盘的正下方,上圆盘与下圆盘预留有研磨间隙;上圆盘的中部设置有进料孔,下圆盘的磨面为凸锥面,凸锥面上呈环形等分分布有多个直槽,上圆盘的磨面为凹锥面,凹锥面的倾斜角度大于凸锥面的倾斜角度。本实用新型将下圆盘的磨面设计成了凸锥面,并在凸锥面上设置了直槽,凸锥面通过与上圆盘凹锥面的配合可对物料进行有效研磨,同时,由于下圆盘磨面的凸锥面设计,研磨面还具有了导流功能,可在保证研磨效果的同时,有效提高研磨效率。
技术领域
本实用新型涉及一种米浆加工砂盘,属于米浆加工砂盘技术领域。
背景技术
现有磨浆机构由上圆砂盘和下圆砂盘组成,上圆砂盘的中部设置有进料孔,上圆砂盘的下表面为内凹的锥面,下圆砂盘的上表面为平面,上圆砂盘下表面的锥面与下圆砂盘上表面的平面合围成研磨区域。现有磨浆机构的底部磨面为平面,工作过程中不能对物料进行导流,存在研磨效率低的缺陷。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有磨浆机构的上述缺陷,提供一种新型的米浆加工砂盘,该新型砂盘将下圆盘的磨面设计成了凸锥面,该凸锥面与上圆盘下表面的凹锥面合围成研磨区域,凸锥面具有导流功能,可在保证研磨效果的同时,有效提高研磨效率。
为实现上述目的,本实用新型的技术解决方案是:
一种米浆加工砂盘,包括各自呈水平安置的上圆盘和下圆盘,上圆盘固定在加工设备上,下圆盘旋转安置加工设备上,下圆盘位于上圆盘的正下方,上圆盘与下圆盘预留有研磨间隙;上圆盘的中部设置有上下贯穿的进料孔,下圆盘的磨面为凸锥面,凸锥面上呈环形等分分布有多个直槽,上圆盘的磨面为凹锥面,凹锥面的倾斜角度大于凸锥面的倾斜角度。
优选的,凹锥面的倾斜角度为凸锥面的倾斜角度的两倍。
优选的,上圆盘是通过设置于其外圈上边沿的安置台固定在加工设备上的。
优选的,下圆盘的中部通孔内安置有圆筒状金属支撑件,金属支撑件的下端与通孔的下孔口处对应设置有相互配合的防坠挡台。
优选的,直槽在径向平面是的投影为径向线。
优选的,上圆盘和下圆盘为树脂或陶瓷材料制作而成。
与现有技术相比较,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型将下圆盘的磨面设计成了凸锥面,并在凸锥面上设置了直槽,凸锥面通过与上圆盘凹锥面的配合可对物料进行有效研磨,同时,由于下圆盘磨面的凸锥面设计,研磨面还具有了导流功能,可在保证研磨效果的同时,有效提高研磨效率。
2、本实用新型将凹锥面的倾斜角度设计为凸锥面的倾斜角度的两倍,该设计即预留除了足够的物料存放空间,同时也可保证研磨效果。
3、本实用新型中的直槽在径向平面上的投影为径向线,如此,当下圆盘旋转时,可保证槽边始终正向刮蹭物料,以提高物料研磨效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为下圆盘的俯视图。
图中,上圆盘1,进料孔2,凹锥面3,安置台4,下圆盘5,金属支撑件6,直槽7,凸锥面8。
具体实施方式
以下结合附图说明和具体实施方式对本实用新型做进一步的详细描述。
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