[实用新型]一种用于半导体电镀设备的排液泵结构

说明书

本实用新型公开了一种用于半导体电镀设备的排液泵结构，其结构包括传输杆、漩涡排液装置、处理口、液泵、数控面板、水泵，所述传输杆为圆柱体结构，切面为长方形长为8‑9cm，截面为圆形半径为0.4cm，管壁厚度为0.5cm，所述传输杆底端与漩涡排液装置采用过盈配合方式活动连接，本实用新型一种用于半导体电镀设备的排液泵结构，设有漩涡排液装置，通过连接口连接外部设备，紧固板进行加固，使得漩涡处理器进行旋转将液体吸收通过通口进行排放，从而加强了设备的排液通顺性，解决了设备内的液体放置过久，排放会产生中断，使得排放速度变慢的问题。

技术领域

本实用新型是一种用于半导体电镀设备的排液泵结构，属于领域。

背景技术

电镀时的表面状况和加工要求，选择其中适当的几个步骤，对零件表面进行必要的修整加工，使零件具有平整光洁的表面，这是能否获得优质镀层的重要环节。

现有技术公开了申请号为：CN201220564820.X的一种用于半导体电镀设备的排液泵结构，包括一端具有一卡槽的动力轴；一侧壁具有多个排液孔及一连接孔的泵体；齿轮轴，其为金属空心轴，其轴端丝扣连接有一金属螺帽，该金属螺帽卡接于所述卡槽内以实现与动力轴的连接，其齿轮端通过所述连接孔延伸至泵体的外部，该齿轮端还设置有一连接至所述齿轮轴内部的喷淋件，所述喷淋件具有多个喷淋孔，且各该喷淋孔朝向齿轮；输液管，包括设置于所述齿轮轴内部的主液管及与该主液管相连且与各该喷淋孔对应的多个分液管；以及装置于齿轮扇叶。本实用新型采用金属齿轮轴和金属螺帽设计，可以提高排液泵的稳定性和寿命；增加了喷淋件，可以避免反应液在齿轮和扇叶上结晶，保证排液泵的工作效率，但是其不足之处在于液体放置过久，排出会断断续续，使得排出液体慢。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型目的是提供一种用于半导体电镀设备的排液泵结构，以解决液体放置过久，排出会断断续续，使得排出液体慢的问题。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：一种用于半导体电镀设备的排液泵结构，其结构包括传输杆、漩涡排液装置、处理口、液泵、数控面板、水泵，所述传输杆为圆柱体结构，切面为长方形长为8-9cm，截面为圆形半径为0.4cm，管壁厚度为0.5cm，所述传输杆底端与漩涡排液装置采用过盈配合方式活动连接，所述漩涡排液装置为圆柱体结构，切面为长方形长为3cm，截面为圆形半径为1.5cm，所述处理口为长方体结构，切面为长方形长为4-5cm，截面为等边矩形宽为2cm，所述液泵为圆柱体结构，切面为长方形长为7-8cm，截面为圆形直径为2cm，共设有3个，中部设有数控面板，所述数控面板为长方体结构，切面为长方形长为4cm，底端通过支撑柱与底座采用过盈配合方式活动连接，所述水泵为圆柱体结构，切面为长方形长为7-8cm，截面为圆形半径为2cm，底端与底座采用过盈配合方式活动连接；所述漩涡排液装置由连接口、封盖、紧固板、漩涡处理器、通口、液体入口组成，所述连接口为圆柱体结构，切面为长方形长为3cm，截面为圆形半径为1cm，右侧与封盖采用过盈配合方式活动连接，所述连接口为中空式圆柱体结构，切面为长方形长为5-6cm，截面为圆形半径为3cm，底端设有紧固板，且与紧固板上端采用过盈配合方式活动连接，所述紧固板切面长为3cm，所述漩涡处理器切面为长方形长为4cm，设在封盖内部右侧且与封盖采用过盈配合方式活动连接，所述通口截面为等边矩形宽为2cm，与封盖采用间隙配合方式活动连接，所述液体入口为圆柱体结构，切面为长方形长为4cm，表面设有螺纹，底端与封盖采用过盈配合方式活动连接。

进一步地，所述传输杆上端与水泵背部接口采用间隙配合方式活动连接。

进一步地，所述漩涡排液装置右侧与底座采用过盈配合方式活动连接。

进一步地，所述处理口上端中部被输送管贯穿。

进一步地，所述液泵共设有3个，对称垂直，且每个相隔3cm。

进一步地，所述数控面板底端设有的传输线贯穿支撑管内部进行传输。有益效果