[实用新型]打磨头及自清洁抛光系统有效

专利信息
申请号: 201721193610.3 申请日: 2017-09-18
公开(公告)号: CN207616417U 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 李洋;张维伦;徐佳驹;郭涛;王彬 申请(专利权)人: 青岛海信模具有限公司
主分类号: B24D7/00 分类号: B24D7/00;B24B53/007;B24B57/02;B24B41/02;B24B41/06;B24B7/10
代理公司: 青岛联智专利商标事务所有限公司 37101 代理人: 侯艳艳
地址: 266114 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 打磨头 打磨 硬质颗粒 抛光 内部通道 抛光过程 本实用新型 工件抛光 抛光系统 抛光效率 自清洁 连通 外部空间 圆心 中断 夹持部 发散 积存 内端 甩出 外端 冲刷 保证
【说明书】:

本实用新型提出一种打磨头及自清洁抛光系统,在抛光的同时清除打磨头与工件抛光面之间的硬质颗粒,无需中断抛光过程,提高抛光效率,保证抛光质量。所述打磨头包括夹持部和头部,打磨头的内部具有内部通道;头部打磨面上设有以打磨面的圆心为中心向四周发散的多个沟槽,沟槽的内端与内部通道连通,外端与打磨头的外部空间连通。本实用新型在抛光过程中产生的硬质颗粒随着打磨头的旋转将会在沟槽中积存,通过向内部通道内注入打磨液,则打磨头旋转产生离心力会将打磨液通过沟槽高速甩出打磨头头部,通过高速打磨液冲刷沟槽带走硬质颗粒,实现在抛光进行的同时清除打磨头与工件抛光面之间的硬质颗粒,无需中断抛光过程,提高抛光效率和抛光质量。

技术领域

本实用新型涉及抛光技术领域,具体是一种在打磨过程中能够自动清除打磨头与工件抛光面之间的硬质颗粒的打磨头自清洁装置。

背景技术

近年来家电、汽车、小家电等领域产品开发周期不断缩短,与之对应的大批量产模具制造周期也大打折扣,但在行业中抛光工序繁琐,效率低下成为制约模具制造生产的瓶颈环节。

无论人工抛光还是自动化抛光,抛光过程中会不断地产生硬质颗粒,硬质颗粒包括打磨下来的碎屑及砂轮颗粒,硬质颗粒大部分会积存在打磨头和工件中间,如不及时清除,将会造成硬质颗粒滞留在打磨头与工件中间,并承受打磨头压力跟随打磨头高速旋转划伤工件抛光表面。

现有技术中,清除硬质颗粒是需要多次中断抛光过程或在抛光间隙中,在采用脱脂棉等配合清洗剂对工件抛光表面进行清洁,清洁抛光表面需要消耗大量脱脂棉和清洗剂,且耗费抛光人员大量时间,以充分清洁工件表面确保上一次抛光残留的硬质颗粒不会影响下一次抛光,极大地降低了抛光效率。

发明内容

本实用新型提出一种打磨头及自清洁抛光系统,在抛光的同时清除打磨头与工件抛光面之间的硬质颗粒,无需中断抛光过程,提高抛光效率,保证抛光质量。

为了达到上述技术目的,本实用新型所提出的一种打磨头的技术方案是,一种打磨头,包括固连为一体的夹持部和头部,所述头部包括圆周侧面、与夹持部相连接的连接端面和与连接端面相对的打磨面;所述打磨头的内部具有沿其轴向方向贯穿所述打磨头的内部通道;所述头部的打磨面上设有以所述打磨面的圆心为中心向四周发散的多个沟槽,所述沟槽的内端与所述内部通道连通,外端与所述打磨头的外部空间连通。

所述沟槽沿所述头部的径向方向的截面呈弧形。

所述沟槽在所述打磨面上均布。

所述沟槽的深度为所述头部的轴向高度的1/3-1/2。

根据权利要求2所述的打磨头,其特征在于:所述沟槽的弯曲方向与所述打磨头的实际旋转方向相反。

本实用新型还提出了一种自清洁抛光系统,包括打磨机、打磨头、打磨液供给管路和工作台,所述打磨头为上述的打磨头,所述打磨液供给管路的出液端伸入所述内部通道内。

所述打磨液供给管路的出液端位于所述沟槽的内端上方。

所述自清洁抛光系统还包括机械手和恒力控制装置,所述打磨头可旋转地安装在所述机械手的前端上,且所述打磨头与所述机械手之间设置有所述恒力控制装置。

所述工作台包括工作台主体、位于工作台主体上的工件夹板组件和底座;所述工作台主体的一端铰接于所述底座,相对的另一端铰接于一升降机构的升降部件,所述升降机构铰接于所述底座。

所述工件夹板组件包括支撑轴、套设在支撑轴上的夹板及夹板紧固件,所述支撑轴的底端固设有滑块;所述工作台主体上设有贯穿所述工作台主体长度或宽度方向的滑道,所述滑块嵌入所述滑道内使所述工件夹板组件可沿所述滑道滑动。

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