[实用新型]一种电化学加工平台有效

专利信息
申请号: 201721201361.8 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN207154942U 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 钟博文;孙立宁;王振华 申请(专利权)人: 苏州迈客荣自动化技术有限公司
主分类号: B23H3/00 分类号: B23H3/00;B23H11/00
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)32257 代理人: 杨慧林
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 电化学 加工 平台
【权利要求书】:

1.一种电化学加工平台,其特征在于:包括工作台和设于所述工作台上的微动平台,所述微动平台上设有阴极固定板,所述阴极固定板上设有多个阴极电极,与所述阴极电极相对的一侧设有用于夹持待加工产品的夹具,位于所述夹具的一侧还设有一能够对产品进行喷射电解剂的第一喷嘴,所述微动平台包括一基座和设于所述基座上的运动平台,所述基座上设有一矩形凹槽,所述矩形凹槽内设有一压电陶瓷驱动器,所述压电陶瓷驱动器的两端分别设有半球形的推力球,所述压电陶瓷驱动器的其中一端抵持于一弹簧的端部,所述弹簧的另一端抵持一位移放大机构,所述位移放大机构包括一三角形推板和设于所述三角形推板上的直角梯形板,所述三角形推板的斜边与所述直角梯形板的斜边滑动连接,所述运动平台上设有位于所述直角梯形板上底与下底处的挡板,所述挡板上设有燕尾槽,所述直角梯形板上底与下底上设有与所述挡板上的燕尾槽相配合的燕尾块,所述工作台上还设有供所述第一喷嘴移动的导轨,所述第一喷嘴的底部设有与所述导轨滑动配合的滑块,所述微动平台的底部设有一升降机构,所述升降机构包括嵌设于所述工作台上的升降气缸,所述升降气缸的活塞缸连接一与所述基座平行的撑板,所述基座设于所述撑板上。

2.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述电解剂为蒸馏水。

3.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述阴极固定板通过螺钉设于所述微动平台上。

4.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述工作台置于支撑块上,所述支撑块设于所述工作台的四角位置。

5.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述工作台上与所述夹具上产品相对的位置前后倾斜设有一凹槽,所述凹槽具有入口与出口,所述凹槽的出口处设有一废液收集池,所述凹槽的入口处设有第二喷嘴,所述喷嘴内设有纯净水。

6.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述压电陶瓷驱动器的另一端通过螺钉与所述基座固定。

7.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述弹簧的内径小于所述推力球的外径。

8.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述直角梯形板的上底的尺寸小于下底的尺寸,所述弹簧抵持于所述三角形推板的一直角边,所述三角形推板的另一直角边与所述直角梯形板的上底设于同一侧。

9.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述推力球为橡胶片。

10.根据权利要求1所述的电化学加工平台,其特征在于:所述第一喷嘴设于所述气缸的活塞杆上,由所述气缸驱动。

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