[实用新型]一种用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及衍射光学技术领域，尤其涉及一种用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置。

背景技术

衍射光学元件应用于诸多领域，如光束整形、脉冲压缩、光束采样、激光合束等。随着激光技术的发展，大功率激光器应用的普及，对相关衍射光学元件的要求也越来越高，特别是在极强极短脉冲激光系统中，衍射光学元件需要承受极大的功率，因而需要依靠提高元件面积来提高所承受功率的上限。大面积衍射光学元件的制造主要分为光刻胶涂布、全息曝光、显影、离子束刻蚀等几个步骤，其中光刻胶涂布是至关重要的一个过程。涂胶工艺要求能在大面积上获得厚度均匀可控的一层光刻胶膜，其难度随面积的增大而增加。目前，主要采用旋转涂胶方式来获得均匀性较好的胶膜，它利用胶体的表面张力和旋转涂胶时的离心力的平衡机制来实现胶厚的控制，对特定的光刻胶材料，转速和胶厚之间有着确定的关系，因此可以实现精确的厚度控制。

涂胶能否成功取决于多方面的因素，一方面是涂胶基片的清洗，如果基片上残留油渍、灰尘或其它成份，则后续衍射元件成品上可能出现胶层附着不牢、掉胶、颗粒状斑点等瑕疵；另一方面是旋转涂布，如果基片不平行于旋转基面，则容易出现涂胶厚度不均匀等问题。因此涂胶工艺需要一种能方便进行基片清洗、基片调平的装置。

现有技术中，201510133314.3号专利公开了大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法，其中涉及涂胶、曝光、显影等各个步骤，对涂胶装置没有作具体的说明。200610105092.5号专利公开了载物平台的调平装置，公开了一种依靠丝杆、手轮的调节结构。但是，均没有光刻胶涂布的专用调节机构，也无法实现紧凑、小巧的基片平面调节，同时现有调节方法难以兼顾基片的清洗要求。

实用新型内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种结构简单紧凑、方便调节基片高度的用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置。

本实用新型提供一种用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置，包括涂胶架机构和设置于所述涂胶架机构处的多个调节机构；所述涂胶架机构包括涂胶架、设置于所述涂胶架底部的多个收容孔以及设置于所述涂胶架外围的多个顶紧螺钉，所述涂胶架的中部设置有收容槽；每个所述调节机构分别包括设置于所述收容孔中的调节块、通过连杆与所述调节块相连的支撑块、穿过所述涂胶架与所述调节块相连的调节螺杆以及套设于所述调节螺杆上的压缩弹簧，所述压缩弹簧的两端分别与所述涂胶架和所述调节块抵接，所述支撑块位于所述收容槽中。

更进一步的，所述调节块与所述收容孔配合。

更进一步的，所述收容孔的横截面为三角形或者方形或者五边形或者六边形。

更进一步的，所述多个顶紧螺钉分别位于所述涂胶架的两侧，所述多个调节机构分别位于所述涂胶架的另外两侧。

更进一步的，所述调节螺杆为内六角的调节螺杆。

更进一步的，所述顶紧螺钉包括四个，所述调节机构包括四个，所述四个顶紧螺钉分别位于所述涂胶架的两侧，所述四个调节机构分别位于所述涂胶架的另外两侧。

本实用新型的用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置，待涂胶的基片放置在所述涂胶机构的收容槽中，由多个所述支撑块支撑，当旋动所述调节螺杆时，由于所述调节块被所述收容孔限制无法产生转动，只能上下滑动，因此可以通过所述调节螺杆来调节所述调节块的高度，从而实现了对所述支撑块的高度的调节，即实现了基片高度的调节，调节完成后，通过所述多个顶紧螺钉即可将基片锁紧；所述用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置结构简单紧凑小巧，可以调节基片的高度，同时方便对基片进行清洗。

附图说明

图1为本实用新型的用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置的示意图；

图2为本实用新型的用于衍射光学元件制作的涂胶调平装置的调节机构的示意图；

图中标记为：涂胶架机构1，涂胶架11，收容孔12，顶紧螺钉13，收容槽14，调节机构2，调节块21，连杆22，支撑块23，调节螺杆24，压缩弹簧25。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。