[实用新型]透明导电性薄膜及触控屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及电容式触控屏技术领域，特别涉及一种透明导电性薄膜及触控屏。

背景技术

透明导电性薄膜是电容式触控屏的核心元件。随着智能终端的飞速发展，对透明导电性薄膜的需求量也是日益增大。透明导电性薄膜一般包括基材及设置于基材两侧的硬涂层、导电层及金属层。目前，由于非晶性聚合物薄膜与结晶性聚合物薄膜相比，具有双折射率较少并且均匀的优点，故大部分透明导电薄膜使用非晶型聚合薄膜形成的基材。

非晶性聚合物薄膜比结晶性聚合物薄膜更脆弱，其表面更容易受到损伤。在卷曲透明导电性薄膜使其为筒状时，会存在相邻的透明导电薄膜的金属层彼此产生粘连及压接的问题。因此，出现了在硬涂层中添加颗粒，以使金属层表面形成凸起的透明导电性薄膜。凸起可使相邻的金属层形成点接触，从而避免发生粘连及压接。

然而，当在硬涂层中添加颗粒后，光线穿过硬涂层时会发生折射、散射及遮挡，从而导致导电膜的整体透光率降低，进而使得导电膜的光学效果较差。

实用新型内容

基于此，有必要针对现有的具有抗粘连功能的透明导电性薄膜光学效果较差的问题，提供一种能有效提升光学效果的透明导电性薄膜及触控屏。

一种透明导电性薄膜，包括：

基材，包括相对设置的第一表面及第二表面；

依次形成于所述第一表面的第一光学调整层、第一透明导电层及第一金属层；

依次形成于所述第二表面的第二光学调整层、第二透明导电层及第二金属层；

所述第一光学调整层和/或所述第二光学调整层中含有多个颗粒，以在所述第一金属层和/或所述第二金属层的表面形成多个凸起，所述基材的厚度为35至125微米。

省略硬涂层后可减少膜层结构，从而减轻对光线的遮挡。而且，可减少膜层结构，从而有利于简化透明导电性薄膜的加工工艺并降低成本。另一方面，相较于硬涂层，光学调整层本身具有调整光学效果的功能，故光线穿过位于光学调整层(第一光学调整层及第二光学调整层合称)内的颗粒时，所产生的折射、散射现象增强。而光线经过多次折射、散射后更容易穿透光学调整层，且穿透的光线分布更均匀。因此，上述透明导电性薄膜的整体透光率增加，从而可有效地提升光学效果。

进一步的，硬涂层在制程工艺中会释放水汽或者有机溶剂，从而导致导电层(例如，ITO层)结晶性较差，方阻不均匀。而本实用新型的透明导电性薄膜由于不包括硬涂层，故释放的水汽或者有机溶剂减少，从而可改善导电层的结晶性，进而使得其方阻更为均匀。而且，因为减少了脆性较高的硬涂层，故透明导电性薄膜的脆性降低，极大地改善了导电膜分切和卷绕制程性能，从而能有效避免冲切大张材料时发生龟裂。

此外，省略硬涂层后光学调整层直接形成于基材表面。当基材的厚度过小时，则承载性不足，容易在光学调整层的制程工艺中被损坏；而基材厚度过大时，对光线的遮挡作用增大，从而使得透光率降低。而且，基材厚度过大时，其内部的材料应力难以释放，从而容易导致导电膜在分切和卷绕过程中发生龟裂，抗裂性较差。当基材的厚度为35至125微米时，基材可较好的兼顾承载性、透光性及抗裂性能。

在其中一个实施例中，所述颗粒与所述第一光学调整层及所述第二光学调整层的材质相同。

也就是说，颗粒与第一光学调整层及第二光学调整层的光学参数也相同。因此，在颗粒与光学调整层的连接界面，光线传播所受影响较小，颗粒与光学调整层更接近为一个整体。当光线穿过含有颗粒的光学调整层时，其传播路线产生的扭曲较小。因此，透明导电性薄膜在达到抗粘连、抗压接的目的同时，还能避免其光学性能受到不利影响。

在其中一个实施例中，所述颗粒呈长条形，且所述颗粒的延伸方向平行于所述基材的表面。

长条形的颗粒在光学调整层中相当于“骨架”作用，可提升光学调整层的机械强度。因此，在省略硬涂层后，光学调整层在调整光学效果的同时还能对基材提供支撑及保护。

在其中一个实施例中，所述第一光学调整层及所述第二光学调整层的平坦区域的厚度为45至145纳米，所述平坦区域为所述第一光学调整层或所述第二光学调整层未设置有所述颗粒的区域。

在此范围内，光学调整层的光学调整效果最好，可使明导电性薄膜光学效果处于最佳状态。

在其中一个实施例中，所述基材的厚度为50微米，所述平坦区域的厚度为75纳米，所述颗粒的粒径为500纳米。