[实用新型]触摸膜

权利要求书

1.一种触摸膜，其特征在于，包括：

薄膜基底，所述薄膜基底包括一体连接的触摸感应段、第一屏蔽段和第二屏蔽段，所述触摸感应段上设有触摸感应电路，所述第一屏蔽段和第二屏蔽段上分别设有金属镀层，且两个屏蔽段上的所述金属镀层分别与所述触摸感应电路的地线相接，所述第一屏蔽段通过弯折与所述触摸感应段的一侧表面相对，并通过粘接剂固定粘接，所述第二屏蔽段通过弯折与所述触摸感应段的另一侧表面相对，并通过粘接剂固定粘接。

2.根据权利要求1所述的触摸膜，其特征在于，

所述薄膜基底呈一字型，所述薄膜基底的中段为所述触摸感应段，所述第一屏蔽段和所述第二屏蔽段分别位于所述触摸感应段的两侧。

3.根据权利要求1所述的触摸膜，其特征在于，

所述薄膜基底呈一字型，所述薄膜基底的中段为所述第一屏蔽段，所述触摸感应段和所述第二屏蔽段分别位于所述第一屏蔽段的两侧。

4.根据权利要求1所述的触摸膜，其特征在于，

所述薄膜基底呈L型，所述第一屏蔽段和所述第二屏蔽段分别与所述触摸感应段相连，且所述第一屏蔽段与所述触摸感应段的连线垂直于所述第二屏蔽段与所述触摸感应段的连线。

5.根据权利要求1所述的触摸膜，其特征在于，

所述薄膜基底呈L型，所述触摸感应段和所述第二屏蔽段分别与所述第一屏蔽段相连，且所述触摸感应段与所述第一屏蔽段的连线垂直于所述第二屏蔽段与所述第一屏蔽段的连线。

6.根据权利要求1所述的触摸膜，其特征在于，

所述薄膜基底整体镀金属层，所述触摸感应电路通过蚀刻成型。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的触摸膜，其特征在于，

所述第一屏蔽段和所述第二屏蔽段分别通过地线接地。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的触摸膜，其特征在于，

所述触摸感应段通过引线连接微处理器。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的触摸膜，其特征在于，所述薄膜基底为PET膜；

所述金属镀层为铜镀层、铝镀层或银镀层；

所述粘接剂为双面胶。