[实用新型]图像投影装置及系统

说明书

本实用新型总体涉及图像投影装置及系统，图像投影装置包括倾斜反射镜和受抑立方体形组件以及数字微镜器件。受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿着DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。

本申请是申请日为2017年2月24日、申请号为201720170550.7、名称为“受抑立方体形组件”的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本实用新型的实施方式总体涉及用于处理一个或多个基板的装置和系统，并且更具体地涉及用于执行光刻工艺的装置。

背景技术

光刻广泛用于制造半导体器件和显示器件(诸如液晶显示器(LCD))。通常利用大面积基板进行LCD制造。LCD或者平板常常用于有源矩阵显示器，诸如计算机、触摸面板设备、个人数字助理(PDA)、蜂窝电话、电视监视器，等等。一般来说，平板可以包括液晶材料层，液晶材料层形成夹在两个板之间的像素。当来自于电源的电力跨液晶材料进行施加时，可在像素位置处控制通过液晶材料的光的量，从而使得图像能够被产生。

显微光刻技术一般用来创建作为形成像素的液晶材料层的部分而并入的电学特征。根据这项技术，通常将光敏型光刻胶涂覆到基板的至少一个表面。接着，图案产生器(pattern generator)用光来使光敏型光刻胶的作为图案的一部分的所选区域曝光，以便导致选择区域中的光刻胶的化学改变，从而使这些选择区域准备好进行后续显影，显影将曝光的或未曝光的光刻胶区域去除以创建掩模，掩模抵制或保护下方层中的部分以免受用于图案化下方层的蚀刻工艺的影响，并且形成电学特征。

为了继续以消费者期望的价格向消费者提供显示器件和其它器件，需要新的装置和方法来在基板(如大面积基板)上精确且成本有效地创建图案。

实用新型内容

本实用新型总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。

在一个实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜、第二棱镜和倾斜反射镜。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。倾斜反射镜与第二表面相邻，并且倾斜反射镜和第二表面以第二气隙隔开。

在另一实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜、第二棱镜、倾斜反射镜和数字微镜器件。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二表面是窗口，并且第二表面是倾斜的。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以第一气隙隔开。倾斜反射镜与第二表面相邻，并且倾斜反射镜和第二表面以第二气隙隔开。数字微镜器件与第三表面相邻。

在又一实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜和第二棱镜。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二表面是反射衍射光栅。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。

附图说明