[实用新型]等离子体焰炬消除装置

权利要求书

1.一种用于用等离子体流处理来自加工工具的排出流的等离子体焰炬消除装置，包括：

由反应腔室壁限定的反应腔室，其用于接收所述排出流和所述等离子体流，所述反应腔室壁包括复合结构，所述复合结构具有面向所述排出流和所述等离子体流的钝化层，所述钝化层由钝化材料形成，所述复合结构具有环绕所述钝化层的由包括高铝质浇注水泥的基底材料形成的基底层，相比于所述基底材料，所述钝化材料对所述排出流和所述等离子体流的化学反应性更弱。

2.根据权利要求1所述的等离子体焰炬消除装置，其特征在于，相比于所述钝化层，所述基底层对热破裂抵抗性更强。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体焰炬消除装置，其特征在于，所述钝化层比所述基底层更薄。

4.根据权利要求1或2所述的等离子体焰炬消除装置，其特征在于，所述钝化材料包括以下项中的至少一项：氧化铝、氧化铝莫来石、氧化锆、氧化钇稳定氧化锆、氧化锆增韧氧化铝、熔凝石英、氧化钇、二氧化铪以及铝硅酸盐和六硼化镧。

5.根据权利要求1或2所述的等离子体焰炬消除装置，其特征在于，所述钝化层通过以下方法中的至少一种方法置于基底层上：涂刷、物理沉积、化学气相沉积和喷洒。

6.根据权利要求1或2所述的等离子体焰炬消除装置，其特征在于，所述钝化层包括以下项中的至少一项：固定于所述基底层上的瓦片和套筒。