[实用新型]旋转下料机构有效
申请号: | 201721252617.8 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN207217571U | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 李文;沈庆丰;喻双喜;周浩;卓远;陈定川 | 申请(专利权)人: | 无锡奥特维科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/677 |
代理公司: | 北京路胜元知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11669 | 代理人: | 路兆强,潘冰 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转 机构 | ||
技术领域
本实用新型总体而言涉及电池自动化生产线,具体而言,涉及一种旋转下料机构。
背景技术
目前,电池的需求量越来越大,而在电池生产过程中,很多环节都需要上料和下料工艺,尤其是在硅片和电池片处理工艺中。现在,通常的下料机构都是通过人工或机械手将硅片或电池片等材料从取料位置直接移动到出料位置,然后再回复到取料位置,如此循环往复,周而复始。这种形式虽然也可以满足一般的自动化生产,但在自动化水平提高的情况下,生产节拍明显提高,下料环节就成了阻碍生产效率一个关键环节,影响电池生产的自动化率。
因此,如何提高下料速度,从而提高电池生产的整体效率,以迎合现代化快节奏生产的需求,从而真正降低生产成本,是业界急需解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷,提供一种下料速度非常高的旋转下料机构。
为实现上述实用新型目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种旋转下料机构,包括有第一转臂和第二转臂,所述第一转臂和第二转臂具有同一转动中心,通过驱动装置驱动进行左右摇摆转动,所述第一转臂端部设置有第一抓取结构,所述第二转臂端部设置有第二抓取结构,其中,所述第一转臂转动时所述第一抓取结构在取料位置和第一放料位置之间切换,所述第二转臂转动时所述第二抓取结构在取料位置和第二放料位置之间切换,而且,所述第一抓取结构在所述取料位置时,所述第二抓取结构在第二放料位置,所述第一抓取结构在所述第一放料位置时,所述第二抓取结构在所述取料位置。
根据本实用新型的一实施方式,所述驱动装置为旋转电机。
根据本实用新型的一实施方式,所述第一转臂和所述第二转臂相互连接,形成叉形结构,所述叉形结构的交汇处连接有转轴,所述转轴连接所述驱动装置。
根据本实用新型的一实施方式,所述第一转臂和所述第二转臂之间的夹角为直角。
根据本实用新型的一实施方式,所述第一抓取结构和所述第二抓取结构的结构相同。
根据本实用新型的一实施方式,所述第一抓取结构和所述第二抓取结构均为真空抓取结构。
根据本实用新型的一实施方式,所述真空抓取结构包括吸盘。
根据本实用新型的一实施方式,所述第一抓取结构和所述第二抓取结构均包括有升降装置。
根据本实用新型的一实施方式,所述升降装置为气缸。
根据本实用新型的一实施方式,所述旋转下料机构用于对电池生产中的硅片或电池片进行下料。
由上述技术方案可知,本实用新型的旋转下料机构的优点和积极效果在于:
本实用新型中,第一转臂和第二转臂进行联动,从而实现双下料,将下料效率提升一倍,符合现代化高效生产的需求。
附图说明
通过结合附图考虑以下对本实用新型的优选实施例的详细说明,本实用新型的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本实用新型的示范性图解,并非一定是按比例绘制。在附图中,同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中:
图1是一示例性实施例中示出的本实用新型旋转下料机构的第一视角的立体结构示意图。
图2是一示例性实施例中示出的本实用新型旋转下料机构的第二视角的立体结构示意图。
图3是一示例性实施例中示出的本实用新型旋转下料机构的第三视角的立体结构示意图。
图4是一示例性实施例中示出的本实用新型片体集中处理设备的结构示意图。
图5是一示例性实施例中示出的本实用新型片体集中处理设备中第一装置的结构示意图。
图6是一示例性实施例中示出的本实用新型片体集中处理设备中第二装置的结构示意图。
图7是一示例性实施例中示出的本实用新型片体集中处理设备中第三装置的结构示意图。
图8是一示例性实施例中示出的本实用新型片体集中处理设备中第四装置的结构示意图。
其中,附图标记说明如下:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的