[实用新型]一种毛笔字练习装置有效

专利信息
申请号: 201721253516.2 申请日: 2017-09-21
公开(公告)号: CN208014205U 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 张更祯 申请(专利权)人: 张更祯
主分类号: G09B11/04 分类号: G09B11/04;G09B11/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 730070 甘肃省*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 贴盒 临摹 毛笔字练习 支架 字帖 连接基 倾斜度 本实用新型 凹槽结构 硅胶薄膜 连接方式 三层结构 书写装置 相对活动 支架安装 凹槽式 固定化 毛笔字 练习 笔画 高弹 基盒 透性 递减 书写 学生
【说明书】:

实用新型涉及毛笔字书写领域,具体为一种毛笔字练习装置;解决了现有毛笔字练习字帖练习效果不佳的问题;其包括:整个装置分为可相对活动的三层结构,分别为基盒、置贴盒和临摹架,各层均通过不同连接方式的支架安装,1#支架用于连接基盒和置贴盒,2#支架用于连接基盒、置贴盒和临摹架,3#支架用于连接置贴盒和临摹架,置贴盒用于放置字帖,临摹架用于固定书写装置,即高弹高透性的硅胶薄膜;其有益效果为:通过采用递减式的凹槽结构字形,使得学生能准确的把握每个字、每个笔画的长度、倾斜度,同时避免了传统凹槽式死板、固定化的缺点,达到提高练习效果的目的。

技术领域

本实用新型涉及毛笔字书写领域,具体为一种毛笔字练习装置。

背景技术

毛笔作为一种书写工具,其历史非常久远。毛笔书法是中国特有的一种传统艺术,中国文字和书法体现了中华文化的底蕴和风格,代表了民族的精神和文化的根。教育部于2011年出台了《中小学生书法教育指导纲要》,在全国范围内推动落实“书法进课堂”,将书法教育纳入中小学生教学体系,从小学三年级起要开设专门的毛笔书法课。要想写好毛笔字必须掌握好笔法和字法,书法是线条造型艺术,所谓笔法主要的就是怎样创造理想线条(点画)的用笔方法。临帖是练好字的必需手段。不临帖,全凭自己想法随意写,是上不了路子的。现有的字帖均为临摹贴,拓印贴,学生使用时,将字帖置于纸的下方,按照投影的字型进行拓印。这种方式导致很多学生将许多运笔的规则都忘了,只记住了顿笔,结果写出来的字拖拉累赘,状如鬼画符。同时运笔的力道均都无法检验校准。传统凹槽式的字帖不能交待下笔和运笔时候的轻重缓急,太过模式化,练习过程中死板,固定化。

因此设计了一种毛笔字练习装置,采用递减式的凹槽结构字形,有效的克服了上述缺点。

实用新型内容

本实用新型提供了一种毛笔字练习装置,有效的解决了现有毛笔字练习字帖练习效果不佳的问题,通过采用递减式的凹槽结构字形,使得学生能准确的把握每个字、每个笔画的长度、倾斜度,同时避免了传统凹槽式死板、固定化的缺点,达到提高练习效果的目的。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案具体如下:

一种毛笔字练习装置,其特征在于:整个装置分为可相对活动的三层结构,分别为基盒1、置贴盒2和临摹架3,各层均通过不同连接方式的支架安装,1#支架4用于连接基盒1和置贴盒2,2#支架5用于连接基盒1、置贴盒2和临摹架3,3#支架6用于连接置贴盒2和临摹架3,置贴盒2用于放置字帖7,临摹架3用于固定书写装置,即高弹高透性的硅胶薄膜9。

所述字帖7为递减式的凹槽结构字帖,从左至右的字帖凹槽深度逐渐递减,最右侧的字的凹槽深度为零,且在每个字的凹槽结构底面均涂敷有一层磁粉8。

所述硅胶薄膜9底面粘贴有软磁层10,软磁层10由软磁材料组成。

本实用新型的有益效果为:1、采用三层结构,字帖无需多次调整位置,放置于置贴盒中合并便可稳定的书写,简单方便。同时临摹架上固定的硅胶薄膜可长时间使用,清洁方便,整个装置无需更换书写纸张。

2、采用递减式的凹槽结构字帖,字形凹槽深度从左至右逐渐递减,使得学生能准确的把握每个字、每个笔画的长度、倾斜度,同时避免了传统凹槽式死板、固定化的缺点。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图;

图2是本实用新型字帖结构示意图;

图3是图2A处放大图;

图4是本实用新型硅胶薄膜和软磁层结构示意图;

图中所示:基盒1、置贴盒2、临摹架3、1#支架4、2#支架5、3#支架6、字帖7、磁粉8、硅胶薄膜9、软磁层10。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张更祯,未经张更祯许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721253516.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top