[实用新型]掩膜版及夹具模组有效
申请号: | 201721258638.0 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN207216268U | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 吕文旭 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72;G03F1/76 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 夹具 模组 | ||
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其是指一种掩膜版及夹具模组。
背景技术
在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示器的制备过程中,利用金属掩膜版实现彩色化像素图案蒸镀为必不可少的工艺过程。其中,金属掩膜版上形成有对应有机发光层图案的开口,蒸镀材料通过开口将有机发光材料蒸镀至基板上,形成像素图案。
现有技术在进行材料蒸镀时,金属掩膜版通常为四边形,利用夹具在金属掩膜版的相对两侧边缘施加垂直于侧边缘的拉力,使金属掩膜版朝两侧拉伸,以保持金属掩膜版的延展性。然而,随着显示器制造世代线的提升,相应使用的金属掩膜版在长度及重量上较原来有很大变化,但同时带来的问题则是金属掩膜版本身会产生较大的下垂量,如蒸镀红色材料时,掩膜版开孔正对红色子像素,其它颜色子像素会由于金属掩膜版的下垂产生遮挡。
现有解决上述技术问题的通常方式是增加金属掩膜版两侧的拉力,以增加金属掩膜版的延展性,然而采用该方式时,在金属掩膜版上,随着拉力的增加,与拉力相垂直的方向会产生波形褶皱,而且越靠近夹具两侧的掩膜单元褶皱愈加明显,从而影响像素蒸镀的效果。
实用新型内容
本实用新型技术方案的目的是提供一种掩膜版及夹具模组,用于解决采用现有技术的掩膜版及夹具,会在掩膜版上产生波形褶皱的问题。
本实用新型实施例提供一种掩膜版,其中,包括:
呈面状形式的掩膜版本体,包括相对设置的两个夹持组,每一夹持组中包括至少两个夹持部,且其中的两个夹持部朝不同方向延伸。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述掩膜版本体包括相互平行的第一边缘和第二边缘,其中两个所述夹持组分别位于所述第一边缘和所述第二边缘的相对两侧。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述掩膜版本体包括相互垂直的第一中心线和第二中心线,其中两个所述夹持组关于所述第一中心线对称设置,且每一所述夹持组的夹持部关于所述第二中心线对称设置。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述掩膜版本体采用合金材料制成。
本实用新型实施例另一方面还提供一种夹具模组,其中,用于如上任一项所述掩膜版的夹持固定,其中,所述夹具模组包括:
多个夹具,每一所述夹具分别夹持一个所述夹持部;
第一驱动结构,与每一所述夹具连接,通过所述第一驱动结构,向每一所述夹具施加沿被夹持所述夹持部的延伸方向的拉力。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述夹具模组还包括:
支座,每一所述夹具分别固定设置于一个所述支座上;
底座,与所述支座滑动配合连接,通过所述支座带动所述夹具沿所述底座滑动,所述夹具相对于被夹持的所述夹持部的角度变化。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述底座包括弯曲弧面,沿所述弯曲弧面的弯曲长度方向设置有导轨,其中所述支座上设置有滑轮,通过所述滑轮沿所述导轨滑动,所述支座与所述底座滑动配合连接。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述支座位于所述底座的上方,所述支座的底面与所述底座的顶面配合连接,且所述滑轮设置于所述支座的底面,所述导轨设置于所述底座上与顶面相连接的侧端面。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述底座的相对两个侧端面分别设置有导轨,且相对两个侧端面上的导轨相互平行。
优选地,所述的掩膜版,其中,每一所述夹具分别包括:
通过转轴连接的第一夹体和第二夹体;
连动结构,分别与所述第一夹体和所述第二夹体连接;
第二驱动结构,与所述连动结构连接,通过所述第二驱动结构带动所述连动结构动作,所述第一夹体相对于所述第二夹体转动,所述第一夹体与所述第二夹体之间的角度变化。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述连动结构包括:
滑动体,滑动地设置于所述第二夹体上,且所述滑动体上设置有滑动曲面;
其中,所述第一夹体上设置有与所述滑动曲面配合的滚轮;
所述第二驱动结构通过驱动所述滑动体相对于所述第二夹体沿一直线朝不同方向滑动,所述滚轮沿所述滑动曲面移动,所述第一夹体相对于所述第二夹体绕所述转轴转动,所述第一夹体与所述第二夹体之间的角度变化。
优选地,所述的掩膜版,其中,所述第一驱动结构与所述第二驱动结构集成于同一结构上。
本实用新型的一个或多个实施例至少具有以下有益效果:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721258638.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于缩微胶片的高精度输片机构
- 下一篇:一种用于曝光机的新型光源
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备