[实用新型]一种有机溶剂清洗槽

说明书

本实用新型涉及一种有机溶剂清洗槽，包括零件放置架、上下运动机构、内部清洗槽以及外部加热槽，零件放置架顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，零件放置架底端伸入内部清洗槽，内部清洗槽上开设有内部清洗槽排出孔、内部清洗槽进液孔，内部清洗槽内设置有内部清洗槽进液管，内部清洗槽进液管与内部清洗槽进液孔连接，内部清洗槽底端开设有废液排除孔，内部清洗槽内底部置有超声波震板，内部清洗槽设置于外部加热槽内并相互隔离，外部加热槽内底部安装有加热器；本实用新型同现有技术相比，能够提高产品清洗效果，提升设备安全性，克服了现有清洗设备所存在的清洗效果差、清洗效率低、加热不安全等缺陷。

[技术领域]

本实用新型涉及半导体清洗设备技术领域，具体地说是一种有机溶剂清洗槽。

[背景技术]

在半导体芯片湿法制程工艺设备和精密零件清洗设备中，常常会使用各种有机溶剂来处理产品，如去胶、去蜡、有机清洗等制程步骤。常用有机溶剂包括(无水乙醇、去胶液、丙酮等)。此类有机溶剂有易燃易爆炸、腐蚀性等特性。因此，有机溶剂清洗槽需要有一些特别的设计和制作方法，以提高产品清洗效果，提升设备安全性。

目前，此类清洗设备中对半导体芯片和精密零件有清洗效果差，清洗效率底，加热不安全等缺陷。不能满足半导体芯片和精密零件的对清洗设备的要求越来越高。因此，开发更有效率和更加安全的清洗设备是迫切的需求。

[实用新型内容]

本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种有机溶剂清洗槽，能够提高产品清洗效果，提升设备安全性，克服了现有清洗设备所存在的清洗效果差、清洗效率低、加热不安全等缺陷。

为实现上述目的设计一种有机溶剂清洗槽，包括零件放置架1、上下运动机构、内部清洗槽7以及外部加热槽14，所述零件放置架1顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，所述零件放置架1底端伸入内部清洗槽7，所述内部清洗槽7上开设有内部清洗槽排出孔9、内部清洗槽进液孔10，所述内部清洗槽7内设置有内部清洗槽进液管5，所述内部清洗槽进液管5与内部清洗槽进液孔10连接，所述内部清洗槽7底端开设有废液排除孔11，所述内部清洗槽7内底部置有超声波震板13，所述内部清洗槽7设置于外部加热槽14内并相互隔离，所述外部加热槽14内底部安装有加热器12。

所述上下运动机构包括电动机3、凸轮2、滑轨4，所述电动机3带动凸轮2旋转，所述凸轮2的输出端连接滑轨4，所述滑轨4在凸轮2的带动下做上下直线运动，所述零件放置架1与滑轨4相连接。

所述外部加热槽14顶部装设有外部加热槽传感器8，所述外部加热槽传感器8电连接加热器12。

所述零件放置架1采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。

所述内部清洗槽7、内部清洗槽进液管5均采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。

所述内部清洗槽7上部采用内部清洗槽溢流V槽(15)方式设计。

所述清洗槽进液管5底部采用多孔进液设计。

所述外部加热槽14和加热器12均采用不锈钢304制作。

所述超声波震板13采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。

本实用新型同现有技术相比，具有如下优点：

(1)利用电动机带动凸轮旋转，凸轮带动滑轨使电机的圆周运动变成上下直线运动传导给零件放置架。在内部清洗槽中零件放置架上下直线运动时使得待清洗零件做上下直线运动，这样做可以使得传动机械结构和内部清洗槽清洗溶剂分离，不污染内部清洗槽中清洗溶剂，且电动机离内部清洗槽较远可以更方便的做防爆处理，提高设备安全性；

(2)待清洗零件在内部清洗槽中不断的上下运动，使得待清洗零件不断与新的清洗溶剂接触，增加杂质溶解或者反应速度，不溶解杂质也可以更快从待清洗零件上剥离，提高清洗效果；