[实用新型]化学发光检测仪、温育装置及反应盘机构

权利要求书

1.一种反应盘机构，其特征在于，包括：

反应盘安装结构；

反应盘驱动结构，设置于所述反应盘安装结构上；

反应承载盘，安装于所述反应盘驱动结构上，所述反应盘驱动结构能够驱动所述反应承载盘做旋转运动；所述反应承载盘能够容纳反应杯；及

导向限位结构，能够对所述反应承载盘的旋转运动进行导向限位。

2.根据权利要求1所述的反应盘机构，其特征在于，所述导向限位结构包括导向限位滑轨及滚动支撑件，所述导向限位滑轨设置于所述反应承载盘，且所述导向限位滑轨凸出于所述反应承载盘的外周面设置；

所述滚动支撑件设置于所述反应盘安装结构上，并位于所述反应承载盘的周侧，所述导向限位滑轨可滑动地与所述滚动支撑件配合。

3.根据权利要求2所述的反应盘机构，其特征在于，所述滚动支撑件为导向限位轴承，所述导向限位轴承的外圈开设滑槽，所述导向限位滑轨可滑动地位于所述滑槽中。

4.根据权利要求3所述的反应盘机构，其特征在于，所述导向限位滑轨位于所述滑槽中的部分的截面形状呈V字形，所述滑槽的截面形状为V字形。

5.根据权利要求3所述的反应盘机构，其特征在于，所述导向限位滑轨位于所述滑槽中的部分的截面形状与所述滑槽的截面形状相适配。

6.根据权利要求4所述的反应盘机构，其特征在于，所述导向限位结构还包括润滑部件，所述润滑部件设置于所述反应盘安装结构上，且位于所述反应承载盘的周侧，所述导向限位滑轨能够与所述润滑部件相接触。

7.根据权利要求6所述的反应盘机构，其特征在于，所述润滑部件具有润滑槽，所述导向限位滑轨位于所述润滑槽中，所述润滑槽的截面形状也为V字形。

8.根据权利要求3所述的反应盘机构，其特征在于，所述滚动支撑件的数量为至少三个，至少三个所述滚动支撑件围绕所述反应承载盘的周侧均匀分布。

9.根据权利要求2至8任一项所述的反应盘机构，其特征在于，所述反应盘机构还包括压紧结构，所述压紧结构设置于所述反应盘安装结构上，其中一个所述滚动支撑件安装于所述压紧结构上，所述压紧结构用于调节所述滚动支撑件与所述导向限位滑轨之间的间距。

10.根据权利要求9所述的反应盘机构，其特征在于，所述压紧结构包括压紧安装座、压紧弹性件及压紧导向杆，所述压紧导向杆安装于所述反应盘安装结构上，所述压紧安装座可滑动地设置与所述压紧导向杆上，所述压紧弹性件套设于所述压紧导向杆上，且所述压紧弹性件的两端分别与所述压紧导向杆及所述压紧安装座抵接；

所述滚动支撑件安装于所述压紧安装座上，所述压紧弹性件能够使所述压紧安装座在所述压紧导向杆上运动，并与所述导向限位滑轨抵接。

11.根据权利要求10所述的反应盘机构，其特征在于，所述压紧结构还包括压紧固定座，所述压紧固定座固定于所述反应盘安装结构上，所述压紧导向杆安装于所述压紧固定座上。

12.根据权利要求1所述的反应盘机构，其特征在于，所述反应承载盘上开设多个用于放置所述反应杯的放置孔，多个所述放置孔沿所述反应承载盘的周向方向均匀分布，添加完样本的所述反应杯能够分别被转移到多个所述放置孔中。