[实用新型]一种高阻隔共挤膜电晕处理装置

权利要求书

1.一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，包括机架和设置有放电电极（1）和处理辊（16）的电晕机，所述电晕机设置于该机架上，其特征在于：还包括驱动放电电极（1）移动的驱动组；所述机架上设置有竖向的第一滑槽（2），所述驱动组包括第一滑块（3）和第一液压杆（4），所述第一滑块（3）一侧板面卡入所述第一滑槽（2）内并与放电电极（1）的端头固定连接，所述第一液压杆（4）的液压推杆与所述第一滑块（3）固定连接，第一液压杆（4）的液压缸设置于机架上；

所述第一滑块（3）上设置有细缝槽（5），所述机架上设置有滑杆（6），该滑杆（6）上设置滑套（7），所述滑套（7）上设置有光电传感器（8），所述光电传感器（8）与控制第一液压杆（4）的控制装置连接。

2.根据权利要求1所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：所述第一液压杆分别设置在机架两侧，设置在机架两侧的第一液压杆为联动同步液压杆。

3.根据权利要求1所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：所述机架上设置有与第一滑槽（2）延伸方向同向的导向杆（10），所述机架上设置有上下两块凸板（11），所述导向杆（10）两端分别与上下两块凸板（11）连接，所述滑块套装于导向杆（10）上。

4.根据权利要求1所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：所述滑杆（6）上刻有刻度线。

5.根据权利要求1所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：在进料的方向上，所述电晕机进料端的前方设置有预处理组，所述预处理组设置有静电消除器（12），所述静电消除器（12）的后方设置有吸尘装置（13）。

6.根据权利要求5所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：所述处理辊（16）与静电消除器（12）之间设置有升降辊（14）；所述机架上设置有竖向的第二滑槽，所述驱动组还包括第二滑块和第二液压杆，所述第二滑块一侧板面卡入所述第二滑槽内并与升降辊（14）的端头固定连接，所述第二液压杆的液压推杆与所述第二滑块固定连接，第二液压杆的液压缸设置于机架上。

7.根据权利要求1所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：所述细缝槽（5）槽宽为0.1-0.5mm。

8.根据权利要求1所述的一种高阻隔共挤膜电晕处理装置，其特征在于：所述第一滑块（3）与滑套（7）相对的侧面为镜面（15）。