[实用新型]电极结构和真空等离子设备有效
| 申请号： | 201721275750.5 | 申请日： | 2017-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN207425792U | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 孙溯;张志强;谢小兵 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 何静生;侯莉 |
| 地址： | 200241 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电极结构 电极板 真空等离子 等离子体气相沉积 本实用新型 电位 电场环境 间隔设置 电势差 薄膜 沉积 应用 制造 | ||
1.一种电极结构，包括：
N个电极板(2)，所述N为大于等于2的自然数；
N-1个样品(3)；
所述样品(3)与所述电极板(2)依次交替地间隔设置；
其特征在于，
所述各电极板(2)之间的电位相同；
所述电极板(2)与所述样品(3)之间存在电势差。
2.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述电极板(2)都连接至同一个射频源(1)，构成等位电极；
或者，所述连接至同一个射频源(1)的电极板(2)和接地的电极板依次交替设置。
3.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述各样品(3)之间的电势都相等。
4.根据权利要求3所述的电极结构，其特征在于，所述各样品(3)都接地。
5.根据权利要求4所述的电极结构，其特征在于，所述电极结构还包括用于承托所述样品(3)的托架(5)；
所述托架(5)包括与所述样品(3)一一对应设置的承托槽(5a)，所述样品(3)被安置在所述承托槽(5a)内；
所述托架(5)还包括将所述承托槽(5a)连接起来的支撑底座(5d)。
6.根据权利要求5所述的电极结构，其特征在于，所述支撑底座(5d)上设置有接地端口(5c1)，所述托架(5)内埋设有分别从所述接地端口(5c1)连接自所述承托槽(5a)的槽口位置的接地线(5c2)；
所述样品(3)与所述接地线在所述槽口的位置电接触。
7.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述各样品(3)中至少有一个样品(3)处于悬浮电位。
8.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述各电极板(2)相互平行且彼此之间等间隔设置，所述样品(3)位于相邻的两个电极板(2)之间的中心位置；
所述各样品(3)在与其相邻的电极板(2)的表面上的投影位于该表面的中部。
9.根据权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述电极板(2)为圆形板或环形板。
10.一种真空等离子体设备，包括真空腔体(4)和设置在所述真空腔体(4)内的如权利要求1至9中任意一项所述的电极结构。
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