[实用新型]一种用于处理酸性工业废水的回收处理系统有效

专利信息
申请号: 201721291890.1 申请日: 2017-10-07
公开(公告)号: CN207748903U 公开(公告)日: 2018-08-21
发明(设计)人: 王立飞;王家彬 申请(专利权)人: 潍坊恒远环保水处理设备有限公司
主分类号: C02F1/66 分类号: C02F1/66;G01N27/00;G01K7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 261021 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 反应池 加料罐 回收处理系统 酸性工业废水 本实用新型 排渣口 水体 隔板 高可靠性 石灰石粉 维护方便 螺栓 出水管 隔板隔 回流管 控制柜 硫化钠 石灰乳 氧化沟 溢流槽 支撑架 溢流 水泵 达标 检测 排放 污染 出口
【说明书】:

实用新型公开了一种用于处理酸性工业废水的回收处理系统,其结构包括螺栓、箱体、支撑架、水泵、第一反应池、控制柜、石灰石粉加料罐、硫化钠加料罐、第二反应池、石灰乳加料罐、第三反应池、PH计、溢流槽、出水管、回流管、排渣口、隔板,第一反应池、第二反应池、第三反应池从左往右依次设在箱体内并通过隔板隔开,第一反应池、第二反应池、第三反应池的底部分别设有排渣口,本实用新型通过PH计能够检测处理后的水体酸性,得知排放水体是否达标,且pH计安装在氧化沟的出口溢流漕内,此处的pH值较具有代表性,且水流平稳,对pH计不会造成大的冲击,pH计具有高精度、高可靠性、安装及维护方便等优点,同时对污染也较敏。

技术领域

本实用新型是一种用于处理酸性工业废水的回收处理系统,属于领域。

背景技术

近年来,随着国民经济的发展及社会环保意识的加强,环境保护已成为当前注重经济工作的同时不可忽视的重要工作,因此,工业废水的处理及达标排放已成为工业生产过程中不可缺少的环节。炼油生产过程中形成的废水因其成分复杂、污染性强甚至含有多种有害成分而必须经过处理方可排放。

酸性废水是工业废水的常见形式,主要来自矿山、冶金、电镀、制革以及医药等行业。极端酸性、高量的有毒金属和丰富的SO42-含量是此类废水的重要特征。酸性废水会腐蚀排水管道和构筑物,如果不加以治理直接排入环境,会使水体水质逐渐酸化,重金属超标,危害农作物和水生生物,因此必须在外排前进行无害化处理。

现有技术公开了申请号为:201320550507.5的实用新型公开了一种用于处理酸性工业废水的系统,包括沉淀调节池、多孔混凝土反应池、人工湿地、出水井,所述沉淀调节池上部与多孔混凝土反应池下部之间通过第一连通管相连通,所述多孔混凝土反应池上部与人工湿地上部之间通过第二连通管相连通,所述人工湿地下部与出水井下部之间通过第三连通管相连通。所述沉淀调节池、多孔混凝土反应池、人工湿地、出水井布置的高度依次降低。该系统对酸性工业废水处理效率高、生态效益好、维护和运行成本低,但现有技术在废水处理完之后直接进行排放,无法得知处理的效果,容易产生不达标的水体排放出去,造成环境污染。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种用于处理酸性工业废水的回收处理系统,以解决现有技术在废水处理完之后直接进行排放,无法得知处理的效果,容易产生不达标的水体排放出去,造成环境污染。

为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种用于处理酸性工业废水的回收处理系统,其结构包括螺栓、箱体、支撑架、水泵、第一反应池、控制柜、石灰石粉加料罐、硫化钠加料罐、第二反应池、石灰乳加料罐、第三反应池、PH计、溢流槽、出水管、回流管、排渣口、隔板,所述第一反应池、第二反应池、第三反应池从左往右依次设在箱体内并通过隔板隔开,所述第一反应池、第二反应池、第三反应池的底部分别设有排渣口,所述支撑架为L型,所述支撑架的一面与箱体设有第一反应池的侧面贴合,所述支撑架通过螺栓固定安装在箱体侧面,所述支撑架上固定有水泵,所述水泵与第一反应池相连通,所述控制柜设在水泵上方并挂设在箱体外表面,所述第一反应池顶部设有石灰石粉加料罐并通过管道连接,所述第二反应池上方连接有硫化钠加料罐,所述石灰乳加料罐设在第三反应池的上方且两者相连接,所述第三反应池的侧面设有溢流槽,所述溢流槽设有PH计,所述PH计与控制柜通过电连接,所述第三反应池通过回流管连接于第一反应池,所述出水管焊接在第三反应池侧面;

所述PH计由PH电极、PH电极接线口、安装板、锁紧孔、壳体、显示屏、操作键、温度电极接线口、温度电极构成;

所述壳体的背面两侧设有安装板且两者为一体化结构,所述安装板上贯穿有锁紧孔,所述壳体正面镶嵌有显示屏,所述显示屏下方设有操作键,所述操作键与壳体采用间隙配合,所述壳体底部设有PH电极接线口、温度电极接线口,所述PH电极接线口与PH电极电缆连接,所述温度电极接线口与温度电极通过电连接,所述PH电极、温度电极均卡设在溢流槽内部,所述壳体内部设有集成芯片,所述温度电极接线口,所述PH电极接线口均与集成芯片电性连接;

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