[实用新型]一种透明导电层及电容触摸屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种透明导电层，以及采用这种透明导电层的电容触摸屏。

背景技术

电容触摸屏一般设有多个透明电极，工作时，通过手指对透明电极电容(如对地电容或互电容)的影响来探测手指在触摸屏上的触碰动作。电容触摸屏的透明电极一般采用透明导电层制作而成，在各种透明导电层中，由金属细线构成的导电网格一般具有良好的导电性和较高的透明度。

然而，由于金属细线对光线具有强烈的反射，使得导电网格会有较大的反射率，当其作为透明电极应用在电容触摸屏中时，在强光环境下(如白天室外)，导电网格的反射光会使屏幕(一般在触摸屏背面设置显示屏而构成屏幕)的显示对比度下降，也就是说，这种触摸屏的强光环境可读性非常差。

发明内容

本实用新型的目的为提供一种透明导电层以及采用这种导电层的电容触摸屏，该透明导电层为低反射导电网格，当其作为透明电极应用在上述电容触摸屏中时，其反射光少，对屏幕对比度的影响小，具有良好的强光环境可读性。所采用的技术方案如下：

一种透明导电层，设置在透明基板上，其特征为：所述导电层包括金属底层和深色顶层，所述金属底层与深色顶层具有一致的由细线构成的网格图案，其中，所述深色顶层为一深色光敏树脂涂层，其网格图案通过曝光显影工艺图形化而成，而所述金属底层的网格图案由所述深色顶层作为掩膜蚀刻而成。

具体地，上述透明导电层的形成过程一般包括以下步骤：

步骤一、在透明基板上设置金属底层；

步骤二、在金属底层上设置作为深色顶层的深色光敏树脂涂层；

步骤三、通过曝光显影的方法，将深色顶层图形化为由细线构成的网格图案(下文称为“网格化”)；

步骤四、以深色顶层作为掩膜，对金属底层进行蚀刻，使得金属底层与深色顶层具有一致的网格图案。

上述透明导电层设置在透明基板上，所述透明基板优选为玻璃基板。所述金属底层可以为在上述步骤一中沉积(如PVD、蒸镀等真空沉积方式)或是电镀在玻璃基板上的厚度5—1000nm金属薄膜，这种金属薄膜可以为单质金属或合金所构成的单层或多层薄膜，优选地，其可以为容易蚀刻的“钼铌-铝钕-钼铌”的三层合金薄膜。上述深色光敏树脂涂层所采用的材料可以由透明光敏树脂(可以为经紫外光照射之后固化的负性光敏树脂涂层，或者为经紫外光照射之后无法进一步固化的正性光敏树脂涂层)与一定的吸光物质(如深色染料、黑色染料或纳米碳颗粒、片状石墨烯)混合而成，在上述步骤二中，涂层可以采用旋涂或者狭缝涂布等工艺方式在金属底层之上涂布并经过一定的预固化(目的为去掉涂层内的溶剂)而成。在上述步骤三中，先在带有网格图形的掩膜板的遮掩下，对涂布完成之后的光敏树脂涂层照射紫外光，使得网格细线部分的涂层发生光固化(或者其他位置发生光分解)；接着，通过显影液浸泡或冲洗而溶解掉未固化(或已分解)的光敏树脂涂层，仅留下已固化的细线部分，从而实现深色顶层的网格化；最后，还可通过烘烤的方法来使网格化的深色顶层进一步固化而更加牢固。在上述步骤四中，可将透明基板进一步浸泡在金属底层的蚀刻液(如磷酸、硝酸和醋酸的混合液)中，以步骤三中形成的网格化深色顶层作为掩膜来对金属底层进行蚀刻，使得金属底层形成与深色顶层一致的网格图形而也被网格化。

为了保证细线的结构稳定，优选上述深色光敏树脂的厚度小于网格细线最小宽度的1/2，一般来说，上述细线的宽度为8—50μm的情况下，可优选深色光敏树脂的厚度为0.5—10μm。导电网格的细线密度可以用开口率来描述，开口率即一定面积的导电网格之内，细线之间孔洞的总面积与导电网格面积的比例，其一般被设定为85%以上以保证透明导电层具有足够的透明度。上述导电网格的图案，典型地可以为正方形网格、菱形网格或者不规则网格。

由此，在上述透明导电层中，反射率较大的金属底层为深色顶层所遮挡，从外侧观察只能看到深色顶层，其反射率非常低，使得这种透明导电层作为透明电极应用在电容触摸屏之内时，其反射光不会影响到显示的对比度，具有较好的强光环境可读性。除此之外，由于金属底层的网格图案是以深色顶层的网格图案作为掩膜而形成的，其不仅工艺简单，金属底层与深色顶层还能够形成一致的图案，在网格的细线中，深色顶层无需为金属底层做多余的遮挡(如深色顶层的细线设计得比金属底层宽)，由此保证了网格具有较高的开口率和透明度。

本实用新型还提供一种电容触摸屏，其特征为：包括透明基板以及设置在透明基板上的至少一电路层，所述电路层包括多个透明电极，所述透明电极由上述透明导电层构成。