[实用新型]磁路系统及采用该磁路系统的扬声器有效

专利信息
申请号: 201721344528.6 申请日: 2017-10-16
公开(公告)号: CN207340179U 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 蔡荣明;朱孟;曾利群;邹宝达;叶灵燚;刘聪 申请(专利权)人: 江西联创宏声电子股份有限公司
主分类号: H04R9/06 分类号: H04R9/06;H04R9/02
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 何世磊
地址: 330096 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁路 系统 采用 扬声器
【说明书】:

实用新型提供一种磁路系统及采用该磁路系统的扬声器,包括边极板、音圈、中极板、中磁、边磁和背极板,所述音圈设于所述中磁与所述边磁之间,所述音圈上设有容纳通孔,所述中极板与所述中磁均设于所述容纳通孔内,所述边磁的极性与所述中磁的极性相反,所述边磁和/或所述背极板上设有声阻孔,所述声阻孔用于平衡所述磁路系统的气压,本实用新型通过在所述边磁和/或所述背极板上设置所述声阻孔的设计,以使有效的防止了由于支架形变导致所述声阻孔的位置与大小的改变,提高了所述磁路系统整体排压的稳定性,使得组装后的电声器件推动振膜的运动较为均衡,防止了电声器件由于气压不稳定导致的发声非线性失真和产生异音的现象。

技术领域

本实用新型涉及电声产品技术领域,特别涉及一种磁路系统及采用该磁路系统的扬声器。

背景技术

磁路系统是电声器件设计的核心,磁路系统的设计直接影响着电声器件发声过程中的安培力大小及音圈受力平衡,进而直接对电声器件的发声效果起着决定性的作用,由于磁路系统是通过磁力进行工作,进而使得工作过程中会由于发热引起气压的变化,为了防止由于气压的变化对磁路系统的影响,使得人们越来越重视磁路系统中气压的排压问题。

现有的磁路系统中是利用支架与磁路的扣合间隙以形成声阻孔,并通过声阻孔的排压效果来平衡磁路中内部的气压,以保障电声器件的正常发声效果。

现有的磁路系统使用过程中,当进行与支架的组装配合时,由于支架在成型过程中容易发生形变,导致前期设计好的声阻孔的位置与大小会发生改变,进而会导致磁路系统中声阻孔的排压不稳定,使得组装后的电声器件在推动振膜运动的时候不均衡,导致五点振幅不均衡使电声器件在振动过程中产生摇摆,从而导致电声器件发声非线性失真和产生异音的现象。

实用新型内容

基于此,本实用新型的目的在于提供一种排压均衡的磁路系统及采用该磁路系统的扬声器。

一种磁路系统,包括边极板、与所述边极板连接的音圈、设于所述音圈内的中极板、设于所述中极板下方的中磁、设于所述中磁侧边的至少一个边磁和设于所述中磁下方的背极板,所述音圈设于所述中磁与所述边磁之间,所述音圈上设有容纳通孔,所述中极板与所述中磁均设于所述容纳通孔内,所述边磁的极性与所述中磁的极性相反,所述边磁和/或所述背极板上设有声阻孔,所述声阻孔用于平衡所述磁路系统的气压。

上述磁路系统,通过所述边极板、所述音圈、所述中极板、所述中磁、所述边磁和所述背极板之间位置的设计,以保障了所述磁路系统对电声器件发声过程中的安培力大小及所述音圈受力的控制功能,通过所述容纳通孔的设计,以使有效的对所述中极板和所述中磁起到了限位的作用,提高了所述磁路系统整体结构的稳定性,通过在所述边磁和/或所述背极板上设置所述声阻孔的设计,以使有效的防止了由于支架形变导致所述声阻孔的位置与大小的改变,提高了所述磁路系统整体排压的稳定性,使得组装后的电声器件推动振膜的运动较为均衡,防止了电声器件由于气压不稳定导致的发声非线性失真和产生异音的现象,所述磁路系统通过直接在所述边磁和/或所述背极板上设置所述声阻孔,以防止由于支架的变化对所述声阻孔的影响,使得所述磁路系统排压均衡,提高了电声器件的发声效果。

进一步地,所述边磁的数量为偶数,并成轴对称方向设于所述中磁的两侧或四侧,且每个所述边磁与所述中磁之间均设有磁路间隙。

进一步地,所述边磁的数量为四个,分别垂直设于所述中磁的四个侧边,且所述边极板采用环形空中结构。

进一步地,所述边磁的数量为两个,分别垂直设于所述中磁上相对立的两个侧边,且所述边极板采用实心的板状结构。

进一步地,所述背极板在所述中磁未设置所述边磁的两侧边上设有延伸板,所述延伸板垂直所述背极板的表面朝向所述边极板延伸。

进一步地,所述边磁朝向所述边极板和朝向所述背极板的侧边上均设有多个凹陷槽,且所述边磁两侧边上的所述凹陷槽采用上下交错分布结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西联创宏声电子股份有限公司,未经江西联创宏声电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721344528.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top