[实用新型]用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽

权利要求书

1.用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽，其特征在于：包括槽体(1)、一个阴极板(2)和两个阳极板(3)；

所述槽体(1)内腔中设置有两个隔膜框(5)，隔膜框(5)上设置有隔膜(6)；所述隔膜框(5)与槽体(1)内腔的底面及侧壁固定连接，隔膜(6)将槽体(1)内腔分隔成一个阴极室(7)和两个阳极室(4)；所述阴极室(7)设置在两个阳极室(4)之间；

所述槽体(1)顶部设置有安装架(8)，安装架(8)上设置有至少三个安装槽(9)；所述阳极板(3)侧壁顶部设置有阳极凸起(31)，阳极凸起(31)设置在安装槽(9)上且阳极板(3)底部位于阳极室(4)中；所述阴极板(2)侧壁顶部设置有阴极凸起(21)，阴极凸起(21)设置在安装槽(9)上且阴极板(2)底部位于阴极室(7)中；

所述每个阳极室(4)都设置有一个阳极板(3)，阴极室(7)设置有一个阴极板(2)。

2.根据权利要求1所述的用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽，其特征在于：所述隔膜(6)通过密封垫圈设置在隔膜框(5)上。

3.根据权利要求2所述的用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽，其特征在于：所述两个阳极板(3)对称设置在阴极室(7)两侧。

4.根据权利要求3所述的用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽，其特征在于：所述阴极板(2)为铜板；所述阳极板(3)为锡板。

5.根据权利要求4所述的用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽，其特征在于：所述隔膜框(5)为聚乙烯框。

6.根据权利要求5所述的用于制备硫酸亚锡的离子膜电解槽，其特征在于：所述隔膜(6)为阴离子交换膜。