[实用新型]镭雕设备

权利要求书

1.镭雕设备，其特征在于，包括：

机台；

移动机构，包括滑轨、滑台及输送驱动件，所述滑轨设置于所述机台，所述滑台滑动配合于所述滑轨，所述输送驱动件设置于所述机台上，用于驱动所述滑台在所述滑轨上沿第一方向作往复运动；

检测机构，包括支架、升降驱动件、滑块及装设于所述滑块的探针，所述支架设置于机台，且位于所述移动机构一端，所述升降驱动件设置于所述支架，用于驱动所述滑块在所述支架上沿第二方向作往复运动；

镭雕机，设置于所述机台，且位于所述移动机构及所述检测机构一侧，所述镭雕机的镭射机头位于所述滑台上方，用于对装载于所述滑台上的待加工产品加工；

控制装置，分别与所述探针、输送驱动件、升降驱动件及所述镭雕机电性连接；

其中，所述第一方向与所述第二方向相交。

2.根据权利要求1所述的镭雕设备，其特征在于，所述滑台沿第一方向运动过程中包括第一镭射位置及第二镭射位置；

当所述输送驱动件驱动所述滑台位于所述第一镭射位置，所述升降驱动件驱动所述滑块沿第二方向下降，以使所述探针对待加工产品接触探测，所述控制装置用于根据探测结果控制所述镭雕机的镭射机头进行第一次镭射；

当所述升降驱动件驱动所述滑块沿第二方向上升，所述探针与待加工产品分离，所述控制装置根据探测结果控制所述输送驱动件驱动所述滑台移动至所述第二镭射位置，并控制所述镭雕机的镭射机头进行第二次镭射。

3.根据权利要求2所述的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕设备还包括设置于所述机台的第一定位件及第二定位件，所述第一定位件位于所述滑轨的一端，用于对所述滑台在所述第一镭射位置限位，所述第二定位件位于所述滑轨的另一端，用于对所述滑台在所述第二镭射位置限位。

4.根据权利要求3所述的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕设备还包括第一缓冲器及第二缓冲器，所述第一缓冲器设置于所述第一定位件，所述第二缓冲器设置于所述第二定位件。

5.根据权利要求1～4任一项所述的镭雕设备，其特征在于，所述输送驱动件包括输送气缸。

6.根据权利要求1～4任一项所述的镭雕设备，其特征在于，所述升降驱动件包括升降气缸。

7.根据权利要求6所述的镭雕设备，其特征在于，所述支架包括主体、导轨及连杆，所述导轨固定于所述主体一侧，所述滑块滑设于所述导轨，所述升降驱动件装设于所述主体顶部，所述连杆一端与所述升降驱动件的输出轴连接，另一端与所述滑块连接。

8.根据权利要求1～4任一项所述的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕机还包脚踏阀开关，用于控制所述镭雕机的开启与关闭。

9.根据权利要求1～4任一项所述的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕机还包括备用启动开关与备用急停开关。

10.根据权利要求1～4任一项所述的镭雕设备，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。