[实用新型]一种CVD承重盘

权利要求书

1.一种CVD承重盘，其特征在于，包括进气段(1)、气体处理段(2)和出气段(3)，所述气体处理段(2)的两端分别与进气段(1)和出气段(3)连接，所述进气段(1)内设置有多个漏斗状进气通道(11)，每个所述漏斗状进气通道(11)的进气端的截面面积大于漏斗状进气通道(11)的出气端的截面面积，每个所述漏斗状进气通道(11)的出气端均设置有第一气体电磁阀；所述气体处理段(2)包括气体储存腔室(21)、气体干燥腔室(22)、气压调节腔室(23)、用于连通气体储存腔室(21)与气体干燥腔室(22)的第一通道(24)和用于连通气体干燥腔室(22)与气压调节腔室(23)的第二通道(25)，所述气体储存腔室(21)与每个漏斗状进气通道(11)的出气端连通，所述第一通道(24)内设置有第二气体电磁阀，所述第二通道(25)内设置有第三气体电磁阀；所述出气段(3)包括一个漏斗状出气通道(31)，所述漏斗状出气通道(31)的出气端的截面面积大于漏斗状出气通道(31)的进气端的截面面积，所述漏斗状出气通道(31)的进气端和气压调节腔室(23)连通，所述漏斗状出气通道(31)的出气端设置有整流网(32)。

2.如权利要求1所述的CVD承重盘，其特征在于，所述气体处理段(2)的两端设置有外螺纹，所述进气段(1)和出气段(3)的端面上均设置有与外螺纹相匹配的内螺纹。

3.如权利要求1所述的CVD承重盘，其特征在于，所述进气段(1)、气体处理段(2)和出气段(3)的侧面上均涂覆有一层隔热层。

4.如权利要求1所述的CVD承重盘，其特征在于，所述漏斗状进气通道(11)和漏斗状出气通道(31)的内壁上均涂覆有一层钛合金耐腐蚀层；所述气体储存腔室(21)、气体干燥腔室(22)、气压调节腔室(23)、第一通道(24)和第二通道(25)的内壁上均涂覆一层钛合金耐腐蚀层。

5.如权利要求1所述的CVD承重盘，其特征在于，所述气体储存腔室(21)内设置有与气体流动方向垂直的金属扰流片(210)，其厚度为0.1mm-0.3mm,所述金属扰流片(210)的一端固定在气体储存腔室(21)的内壁上。

6.如权利要求1所述的CVD承重盘，其特征在于，所述气体干燥腔室(22)内设置有硅胶层(220)和将硅胶固定在气体干燥腔室(22)内的固定网(221)。

7.如权利要求1所述的CVD承重盘，其特征在于，所述气压调节腔室(23)内设置有金属盘管(230)，所述金属盘管(230)的进气端与第二通道(25)连通，所述金属盘管(230)的出气端与漏斗状出气通道(31)的进气端连通，所述漏斗状出气通道(31)的进气端设置有第四气体电磁阀。