[实用新型]真空灭弧室触头

说明书

本实用新型提供了一种真空灭弧室触头，属于电器配件技术领域。它解决了现有触头片使用中稳定不稳定等技术问题。本真空灭弧室触头包括触头杯、触头片，触头杯内的轴线位置设置有用于支撑触头杯内壁与触头片的支撑柱，支撑柱外部套设有同轴的铁芯，支撑柱两端均设置有盘状的凸环，凸环分别与触头片、触头杯内壁抵触，铁芯位于凸环外壁与触头杯内侧壁之间。本实用新型相比较原先的结构，能够增加支撑柱与触头杯、触头片的支撑面积，这样能够分散触头片上的接触压力的传递，保证了触头片的结构稳定性。

技术领域

本实用新型属于电器配件领域，涉及到一种断路器，具体是一种真空灭弧室触头。

背景技术

在电力系统中，高压电路的开断需要通过高压真空灭弧室来实现。高压真空灭弧室包括设置在真空腔室中的静触头和动触头，当动触头接触到静触头时电荷从动触头流入静触头实现高压电路的导通，当动触头脱离静触头时实现高压电路的断开，每次触头断开都会伴随电弧产生，由于是真空环境，电弧可以快速熄灭。

我国专利申请文献(公告号：CN202948877U；公告日：2013.05.22)中公开了一种真空灭弧室触头，包括触头杯、支撑座、环形铁芯、触头盘；支撑座支撑在触头杯和触头盘之间，环形铁芯套在支撑座上并位于触头杯中。在工作的过程中，将两个上述触头安装在真空灭弧室内，两个触头一个为静触头、另一个为动触头，触头杯与导电杆连接，两个触头可以通过触头盘的接触与分离进而对电路开闭进行切换。

触头盘在开合的过程中承受较大的结合压力，触头盘可能撞击变形甚至断裂。在上述技术方案中，其支撑的结构仅为位于中心位置的支撑柱，支撑效果较为一般，对触头盘的稳定依旧得不到保证。

发明内容

本实用新型针对现有的技术存在的上述问题，提供一种真空灭弧室触头，本实用新型所要解决的技术问题是：如何提高触头片结构的稳定性。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：

一种真空灭弧室触头，包括触头杯、固定在触头杯上的触头片，所述触头杯内同轴设置有支撑柱，所述支撑柱外部套设有同轴的铁芯，其特征在于，所述支撑柱两端均设置有盘状的支撑部，一端的支撑部与触头片内端面抵触，另一端的支撑部与触头杯的内底壁抵触，所述铁芯位于支撑部的外侧壁与触头杯的内侧壁之间，所述铁芯一端与触头杯内端面抵触，另一端与触头片内壁抵触。

在支撑柱上面额外的增加了支撑部的结构，相比较原先的结构，能够增加支撑柱与触头杯、触头片的支撑面积，这样能够分散触头片上的接触压力的传递，避免应力集中在触头片中心位置，保证了触头片的结构稳定性。同时，把铁芯的结构设计成填充了支撑部外壁与触头杯内壁之间的空隙内，这样铁芯也能起到辅助的对触头片的支撑作用。在这种结构下整个触头片内壁基本被支撑部与铁芯侧壁支撑，整个触头片上承受的压力得到充分的分散，这样在长时间的接触冲击中，这个触头片结构能够保持稳定，使用寿命较长。

在上述的真空灭弧室触头中，所述铁芯上设置有阻碍内部涡流效应的凹陷部。铁芯的结构能够有效的增加触头间隙中的纵向磁场，而凹陷部的结构能够限制铁芯中铁磁材料的涡流效应，进而保证纵向磁场的磁场强度。

在上述的真空灭弧室触头中，所述凹陷部为轴向贯穿铁芯上下端面的断口。断口能够直接组织铁芯中周向电流的产生，降低自身的涡流效应。

在上述的真空灭弧室触头中，所述凹陷部为开设在铁芯的端面上且沿轴向延伸的开口槽，所述开口槽数量为多个且均匀分布。多个开口槽也可以对铁芯中铁磁材料的涡流效应进行消除。

在上述的真空灭弧室触头中，所述开口槽分布在铁芯的两端面上，铁芯两端面的开口槽沿圆周方向相互交错分布。开口槽之间相互交错，这样铁芯整体结构也较为的稳定，交错的开口槽也尽可能的将铁芯中铁磁材料内部的涡流效应降到最低。