[实用新型]硅生产用均匀加料器及硅生产系统有效
申请号: | 201721384765.5 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN207581368U | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 陈洪厚;张德兵;李涛 | 申请(专利权)人: | 重庆市黔永硅业有限公司 |
主分类号: | C01B33/025 | 分类号: | C01B33/025 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 王献茹 |
地址: | 409000 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅生产 加料通道 加料管 加料器 第一电磁阀 出口位置 二氧化硅 箱式机架 电磁阀 连通 本实用新型 电磁阀连接 原料利用率 并排设置 出料管口 顶部设置 反应效率 交替关闭 交替开启 均匀反应 控制系统 外部环境 物料混合 控制器 加料 出口 | ||
本实用新型涉及一种硅生产用均匀加料器及硅生产系统,该加料器具有并排设置的第一加料通道和第二加料通道,第一加料通道的出口和第二加料通道的出口相互连通后通过出料管口与外部环境连通,在加料器的箱式机架的顶部设置有第一加料管和第二加料管,在第一加料管的出口位置设置有第一电磁阀,在第二加料管的出口位置设置有第二电磁阀,在箱式机架上设置有分别与第一电磁阀和第二电磁阀连接且搭载有能够控制第一电磁阀和第二电磁阀交替开启并交替关闭的控制系统的控制器,该硅生产用均匀加料器能够对二氧化硅和碳进行物料混合,使二氧化硅与碳之间均匀反应,从而提高反应效率并促进反应完全、提高原料利用率。
技术领域
本实用新型涉及一种硅生产用均匀加料器及硅生产系统。
背景技术
随着工业的发展,我国化学用硅的产量和出口量不断地增长,生产出的硅可被大量用于冶炼成硅铁合金,作钢铁工业中合金元素,在很多种金属冶炼中作还原剂。硅还是铝合金中的良好组元,绝大多数铸造铝合金都含有硅。另外,硅是电子工业超纯硅的原料,超纯半导体单晶硅做的电子器件具有体积小、重量轻、可靠性好和寿命长等优点。掺有特定微量杂质的硅单晶制成的大功率晶体管、整流器及太阳能电池,比用锗单晶制成的好。非晶硅太阳能电池研究进展很快,转换率达到了8%以上,除此之外,硅还有其他更加广泛的用途。
在硅的冶炼工艺中,通常使用二氧化硅和碳作为原料,使二氧化硅与碳充分反应,从而生成硅,生产过程中,二氧化硅与碳达到一定的粒度后置放入冶炼炉中进行反应,但是,由于二氧化硅与碳的投料过程并不均匀,从而不利于二氧化硅与碳之间的充分反应,生产效率低。
实用新型内容
本实用新型是鉴于上述问题而提出的,其目的在于提供一种硅生产用均匀加料器及硅生产系统,其能够对二氧化硅和碳进行物料混合,使二氧化硅与碳之间均匀反应,从而提高反应效率并促进反应完全、提高原料利用率。
为实现本实用新型的目的采用如下的技术方案。
技术方案1的实用新型为一种硅生产用均匀加料器,具有内部形成有加料通道的箱式机架,所述加料通道包括并排设置的第一加料通道和第二加料通道,所述第一加料通道的出口和所述第二加料通道的出口相互连通后通过开设在所述箱式机架的底部的出料管口与外部环境连通。
在所述箱式机架的顶部设置有各自的出口能够分别与所述第一加料通道的进口和所述第二加料通道的进口相互连通的第一加料管和第二加料管,在所述第一加料管和所述第二加料管上分别开设有各自的加料口。
在所述第一加料管的出口位置设置有能够控制物料在所述第一加料管的内部的流通状态的第一电磁阀,在所述第二加料管的出口位置设置有能够控制物料在所述第二加料管的内部的流通状态的第二电磁阀,在所述箱式机架上设置有分别与所述第一电磁阀和所述第二电磁阀连接且搭载有能够控制所述第一电磁阀和所述第二电磁阀交替开启并交替关闭的控制系统的控制器。
另外,技术方案2的硅生产用均匀加料器,在技术方案1的硅生产用均匀加料器中,所述第一加料管的加料口和所述第二加料管的加料口分别呈漏斗状。
另外,技术方案3的硅生产用均匀加料器,在技术方案1的硅生产用均匀加料器中,所述第一加料通道包括与所述第一加料管的出口连通的第一竖直段和与所述第一竖直段连通的第一倾斜段,所述第二加料通道包括与所述第二加料管的出口连通的第二竖直段和与所述第二竖直段连通的第二倾斜段。
另外,技术方案4的硅生产用均匀加料器,在技术方案3的硅生产用均匀加料器中,所述第一倾斜段与水平方向之间的夹角和所述第二倾斜段与所述水平方向之间的夹角分别为30-55度。
另外,技术方案5的硅生产用均匀加料器,在技术方案4的硅生产用均匀加料器中,所述第一倾斜段与水平方向之间的夹角和所述第二倾斜段与所述水平方向之间的夹角分别为45度。
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