[实用新型]研磨抛光机主轴机构

权利要求书

1.一种研磨抛光机主轴机构，其特征在于，包括：主轴、轴外圈、轴承、轴承盖板，所述主轴设于所述轴外圈内并通过所述轴承进行支撑，所述轴外圈的两端均设有所述轴承盖板，贯穿所述轴外圈外壁与所述轴外圈内壁，以及所述主轴的顶端均开设有腐蚀性研磨液入口，且所述主轴为中空结构，且正对所述腐蚀性研磨液入口开设有侧开口及上开口，所述主轴底端还设有腐蚀性研磨液出口，腐蚀性研磨液通过所述腐蚀性研磨液入口进入，并可从设置在所述主轴上的所述侧开口及上开口进入至所述主轴内部，并从所述腐蚀性研磨液出口流出。

2.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构，其特征在于，所述轴外圈外壁正对双重保护高分子自润滑密封圈处，开设有油杯，所述油杯用于对所述双重保护高分子自润滑密封圈补充高分子油脂。

3.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构，其特征在于，还包括研磨液管以及设置在所述研磨液管上的控制开关，所述研磨液管与所述研磨液入口连接。

4.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构，其特征在于，所述轴外圈内壁开设有挡圈槽，所述挡圈槽内设置用于将所述轴承进行定位的挡圈。

5.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构，其特征在于，还包括压环及双重保护高分子自润滑密封圈，所述主轴的两端均通过所述双重保护高分子自润滑密封圈进行密封，所述双重保护高分子自润滑密封圈通过所述压环固定于所述轴外圈内壁与所述主轴外壁之间。