[实用新型]一种可调式陶瓷磨介球氧化层分离装置

说明书

本实用新型提供一种可调式陶瓷磨介球氧化层分离装置，包括机架，机架上表面依次设置有滚筒Ⅰ、滚筒Ⅱ和滚筒Ⅲ，储料罐设置在滚筒Ⅰ和滚筒Ⅱ的中上方或滚筒Ⅱ和滚筒Ⅲ的中上方；机架为立方体框架，滚筒Ⅰ、滚筒Ⅱ和滚筒Ⅲ均带有中心轴，滚筒Ⅰ和滚筒Ⅲ的中心轴的两端均与机架通过卡槽卡接，滚筒Ⅱ的两端与机架通过轴承座套接且其中一端与传动轮连接，传动轮连接有电机，滚筒Ⅱ为主动滚筒，滚筒Ⅰ和滚筒Ⅲ为从动滚筒。与现有技术相比，本实用新型适用于小批量陶瓷球的加工，可实现仅剥离磨介球的氧化层而不消耗陶瓷球内部非氧化层的尺寸，而且仅需加入少量的磨料和磨液，所用的电机功率小，耗电量低，成本低，可实现无人操作。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷加工装置，具体涉及一种可调式陶瓷磨介球氧化层分离装置。

背景技术

陶瓷磨介球，指的是以高纯度、高阿尔法相、低粒度氮化硅粉末等材料为原料，经过配料、混料、制浆、成型、干燥、烧结等工序制作而成的，主要作为纳米级粉体研磨介质而被广泛使用的球石。

在陶瓷磨介球的生产过程中，因与其它物质接触发生氧化会使其表面形成氧化层，需要将氧化层去除以保证陶瓷磨介球的品质。目前，去除氧化层是利用球磨机来球磨。然而，现有的球磨机加工过程，磨板损耗严重，磨床折旧，磨料和磨液消耗量大，所需电费和人工费较多，而且不适用于小批量陶瓷球的加工，因此，如何改进或设计一种新型的去除陶瓷磨介球的氧化层的装置来解决上述问题，成为本领域的需求。

发明内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种可调式陶瓷磨介球氧化层分离装置。

本实用新型的目的是以下述方式实现的：

一种可调式陶瓷磨介球氧化层分离装置，包括机架1和储料罐5，所述机架１上表面依次设置有滚筒Ⅰ2、滚筒Ⅱ3和滚筒Ⅲ4，储料罐5设置在滚筒Ⅰ2和滚筒Ⅱ3的中上方或滚筒Ⅱ3和滚筒Ⅲ4的中上方；机架1为立方体框架，滚筒Ⅰ2、滚筒Ⅱ3和滚筒Ⅲ4均带有中心轴，滚筒Ⅰ2和滚筒Ⅲ4的中心轴的两端均与机架１通过卡槽6卡接，卡槽6的底座上设有长方形槽11，螺钉穿过长方形槽11将卡槽6与机架1经螺纹连接而固定，滚筒Ⅱ３的两端与机架１通过轴承座10套接且其中一端与传动轮连接，传动轮连接电机，滚筒Ⅱ3为主动滚筒，滚筒Ⅰ2和滚筒Ⅲ4为从动滚筒。

轴承座10是固定在机架1上的两个螺栓7之间。

滚筒Ⅱ3的两端均设置有圆挡板8。

滚筒Ⅰ2和滚筒Ⅱ3之间设置一或者二个储料罐5，同时滚筒Ⅱ3和滚筒Ⅲ4之间也设置一或者二个储料罐5。

本实用新型的有益效果：本实用新型采用三个滚筒与储料罐相互配合转动的方式，达到球磨去除陶瓷磨介球氧化层的目的，而且对磨介球仅是氧化层的剥离，不消耗陶瓷球内部非氧化层的尺寸；而且用于连接滚筒和机架的卡槽底座上设有长方形槽，螺钉穿过长方形槽将卡槽与机架经螺纹连接而固定，可通过调节卡槽与机架的相对位置来调节两个滚筒之间的距离。与现有技术相比，本实用新型既适用于小批量陶瓷球的加工，又适用于大批量陶瓷球的加工，而且仅剥离磨介球的氧化层而不消耗陶瓷球内部非氧化层的尺寸，仅需加入少量的磨料和磨液，所用的电机功率小，耗电量低，成本低，可实现无人操作。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图。

图2是本实用新型结构的左视图。

图3是本实用新型中储料罐的立体结构示意图。

其中，1是机架，2是滚筒Ⅰ，3是滚筒Ⅱ，4是滚筒Ⅲ，5是储料罐，6是卡槽，7是螺栓，8是圆挡板，9是传动轮，10是轴承座，11是长方形槽；51是封口圆盖，52是固定槽，53是连接轴。

具体实施方式