[实用新型]一种彩膜基板、显示面板和显示装置有效
申请号: | 201721398214.4 | 申请日: | 2017-10-26 |
公开(公告)号: | CN207301559U | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 王晓康;张绪;张伟;赵艳艳;于亚楠;牛志军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 显示 面板 显示装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,特别是涉及一种彩膜基板、显示面板和显示装置。
背景技术
近年来,R角设计已成为显示领域的主流产品设计方案,例如三星S8等产品,现有的R角设计主要是通过BM遮挡Pixel开口大小的不同使透过率产生差异,从而实现灰阶过渡,如图1所示,但该技术致使R/G/B sub pixel之间距离增大,在R角灰阶过渡处在宏观视觉上容易出现亮暗点以及锯齿等不良,显示效果变差。
实用新型内容
鉴于上述问题,本申请实施例提供了一种彩膜基板、显示面板和显示装置,以更好的实现灰阶过渡,避免出现亮暗点以及锯齿等不良。
为了解决上述问题,本申请实施例公开了一种彩膜基板,所述彩膜基板划分为主显示区域和边缘显示区域,所述边缘显示区域的彩膜基板包括:
基板,以及设置在所述基板上的黑色矩阵和遮光层;其中,所述黑色矩阵具有多个开口区域;所述遮光层在所述基板上的正投影与所述开口区域在所述基板上的正投影重叠;且所述遮光层的厚度,沿所述主显示区域至所述边缘显示区域的方向,逐渐变厚;
设置在所述黑色矩阵和所述遮光层上的色阻层,所述色阻层在所述基板上的正投影覆盖所述遮光层在所述基板上的正投影。
优选地,所述边缘显示区域的边界为弧形。
优选地,所述遮光层的厚度小于黑色矩阵的厚度。
优选地,所述遮光层的光密度OD值小于4.0/μm。
优选地,所述遮光层与所述黑色矩阵的材料相同。
优选地,所述遮光层的材料为光阻树脂类材料。
为了解决上述问题,本申请实施例还公开了一种显示面板,包括上述任一项所述的彩膜基板。
为了解决上述问题,本申请实施例还公开了一种显示装置,包括上述任一项所述的显示面板。
与现有技术相比,本申请实施例包括以下优点:
本申请提供了一种彩膜基板,该彩膜基板具有主显示区域和边缘显示区域,其中边缘显示区域的彩膜基板包括基板,设置在基板上的黑色矩阵,设置在黑色矩阵开口区域的遮光层,以及设置在黑色矩阵和遮光层上的色阻层;通过在开口区域设置遮光层,且所述遮光层的厚度,沿所述主显示区域至所述边缘显示区域的方向,逐渐变厚,实现对光透过率的控制,从而更好的实现灰阶过渡,避免出现亮暗点以及锯齿等不良。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对本申请实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中一种彩膜基板边缘的平面结构示意图;
图2是本申请一实施例提供的一种彩膜基板边缘显示区域的剖面结构示意图;
图3是本申请一实施例提供的一种彩膜基板边缘显示区域的平面结构示意图;
图4是本申请一实施例提供的一种彩膜基板边缘显示区域的制备方法流程图;
附图标记说明:
10-基板;11-黑色矩阵;12-遮光层;13-开口区域;14-色阻层。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本申请的一个实施例中提供了一种彩膜基板,该彩膜基板可以划分为主显示区域和边缘显示区域,参照图2,示出了一种彩膜基板边缘显示区域的剖面结构示意图,该边缘显示区域的彩膜基板可以包括基板10,以及设置在基板10上的黑色矩阵11和遮光层12;其中,黑色矩阵11具有多个开口区域13;遮光层12在基板10上的正投影与开口区域13在基板10上的正投影重叠;且遮光层12的厚度,沿主显示区域至边缘显示区域的方向,逐渐变厚;设置在黑色矩阵11和遮光层12上的色阻层14,色阻层14在基板10上的正投影覆盖遮光层12在基板10上的正投影。
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