[实用新型]硅片自动清洗脱胶一体机

权利要求书

1.硅片自动清洗脱胶一体机，其特征在于：包括水洗清洗装置(1)、脱胶装置(2)、硅片水平输送装置；所述水洗清洗装置(1)以及脱胶装置(2)并排设置；

所述水洗清洗装置以及脱胶装置(2)均包括高压泵(9)、至少两个支撑座(3)，所述支撑座(3)并排均匀分布；所述支撑座(3)下方具有硅片运输区间；所述支撑座(3)下方的硅片运输区间内设置有硅片水平输送装置以及硅片输送滑道(8)；

所述支撑座(3)上设置有两端密闭的高压管道(12)；所述高压管道(12)沿硅片水平输送装置输送硅片的方向延伸；且位于硅片水平输送装置的上方；

所述高压管道(12)上设置有入水口，所述入水口与高压泵(9)连通；所述高压管道(12)上设置有沿高压管道(12)长度方向均匀分布的喷头(121)；所述喷头(121)位于硅片水平输送装置的正上方；

所述脱胶装置(2)还包括脱胶液加热装置(13)；所述脱胶液加热装置(13)与脱胶装置(2)的高压泵(9)连通。

2.如权利要求1所述的硅片自动清洗脱胶一体机，其特征在于：所述硅片水平输送装置包括至少两根皮带(6)；所述皮带(6)两端均设置有传动轴(4)；所述传动轴(4)上设置有至少两个皮带轮(5)，所述皮带轮(5)与皮带(6)一一对应；所述皮带(6)与皮带轮(5)传动连接；所述传动轴(4)两端设置有轴承座(11)；两根传动轴(4)中任意一根的轴承座(11)上设置有驱动传动轴(4)转动的驱动电机(7)。

3.如权利要求2所述的硅片自动清洗脱胶一体机，其特征在于：所述支撑座(3)下方的硅片运输区间内设置有中间横梁(14)；所述中间横梁(14)位于皮带(6)下方，所述中间横梁(14)上设置有高压管道(12)，所述高压管道(12)上设置有沿高压管道长度方向均匀分布的喷头(121)，且该喷头(121)位于皮带(6)的正下方。

4.如权利要求2所述的硅片自动清洗脱胶一体机，其特征在于：所述硅片水平输送装置下方设置有废水收集盒。

5.如权利要求2所述的硅片自动清洗脱胶一体机，其特征在于：所述滑道(8)上设置有沿滑道(8)长度方向延伸的硅片导向槽。