[实用新型]一种基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板有效
申请号: | 201721419910.9 | 申请日: | 2017-10-31 |
公开(公告)号: | CN207766639U | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 倪文波;倪新;刘兆;曹军;王福兴 | 申请(专利权)人: | 泰州市博泰电子有限公司 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 225321 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米管束 复合材料层 聚合物基体 散热层 上端 纳米复合板 导电图形 复合板层 间隔排列 上催化层 上导体层 下催化层 下导体层 电连接 多层电路板 穿过 多层电路 下端 | ||
1.一种基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板,包括复合板层、上导体层、下导体层,所述复合板层位于中间,所述上导体层形成有上导电图形,所述下导体层成有下导电图形,所述上导体层和下导体层分别位于复合板层的上下两侧;
其特征在于:所述复合板层包括上复合材料层、下复合材料层、上散热层以及下散热层,所述上复合材料层叠设在下复合材料层上,上散热层设于上复合材料层之上,所述下散热层设于下复合材料层之下;
所述上复合材料层包括上聚合物基体、若干上纳米管束以及上催化层,所有上纳米管束间隔排列在上聚合物基体中,所述上催化层设置于所有上纳米管束和上导体层之间,所有上纳米管束的上端均穿过上散热层与上导电图形电连接;所述下复合材料层包括下聚合物基体、若干下纳米管束以及下催化层,所有下纳米管束间隔排列在下聚合物基体中,所述下催化层设置于所有下纳米管束和下导体层之间,所有下纳米管束的上端均穿过下散热层与下导电图形电连接;所述上纳米管束的下端与对应的下纳米管束的上端连接。
2.根据权利要求1所述的基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板,其特征在于:所述纳米管束采用Cds-SiO2纳米管束。
3.根据权利要求1所述的基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板,其特征在于:所有上纳米管束在上聚合物基体中沿水平方向均匀间隔布置。
4.根据权利要求3所述的基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板,其特征在于:所有下纳米管束在下聚合物基体中沿水平方向均匀间隔布置。
5.根据权利要求1所述的基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板,其特征在于:所述上散热层为上中空立体结构,在该上中空立体结构表面开设有若干贯穿上散热层上下表面的散热通孔,在散热通孔中填充有散热硅胶。
6.根据权利要求1所述的基于Cds-SiO2纳米复合板的多层电路板,其特征在于:所述下散热层为下中空立体结构,在该下中空立体结构表面开设有若干贯穿下散热层上下表面的散热通孔,在散热通孔中填充有散热硅胶。
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