[实用新型]一种离子溅射仪样品平台有效

专利信息
申请号: 201721420078.4 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN207537528U 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 李伟;霍晓楠;王瑀;郭茂莲 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 转动轴 样品盘 发条 转置 离子溅射仪 发条装置 样品平台 均匀性 喷镀 底座 转动 本实用新型 螺旋式旋转 电场 垂直向上 离子溅射 倾斜夹角 可调节 上端 储能 磁场 镀膜 上弦 应用
【权利要求书】:

1.一种离子溅射仪样品平台,包括发条转置底座、转动轴、样品盘,其特征是:底座中带有发条装置,可以对其进行上弦储能,发条转置带动一垂直向上的转动轴,转动轴可以在发条装置的带动下自身进行旋转,样品盘连接在转动轴的上端,与转动轴的夹角可调节,范围为0°-90°,即样品盘可以进行一定的倾斜;随着发条转置带动转动轴转动,转动轴从而带动样品盘进行转动,由于样品盘与水平面有一倾斜夹角,放置在样品盘中样品呈现为螺旋式旋转,可以得到全方位、均匀性的喷镀效果。

2.如权利要求1所述的离子溅射仪样品平台,其特征在于:所述的发条转置底座、转动轴、样品盘的材质为不含铁元素、钴元素、镍元素的金属与高分子材料,为铝、铜、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚苯硫醚、聚碳酸酯。

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