[实用新型]气体分布器以及三相浆态床反应器

说明书

本实用新型属于化工设备技术领域，具体涉及一种气体分布器以及三相浆态床反应器。本实用新型的气体分布器，包括进气管、多根气体分布支管、多组气体分布环管和气体喷管；气体分布支管的一端为盲端，另一端与进气管连通，气体分布环管的两端分别与两个气体分布支管连接；气体分布支管和气体分布环管上均设置有多个排气孔，排气孔上连接有开口向下的气体喷管，气体喷管分别外凸于气体分布支管和气体分布环管的外壁。本实用新型结构简单合理，易于安装制造，有效缓解现有的气体分布器存在的气体分布不均匀，反应器底部催化剂沉积以及气流压力不稳定或者供气中断时催化剂堵塞气体分布器等问题。

技术领域

本实用新型属于化工设备技术领域，尤其涉及一种气体分布器以及三相浆态床反应器。

背景技术

气液固三相浆态床反应器是将催化剂分散在惰性溶剂或反应物料中进行反应的一种装置。在反应器中，为了实现反应物浓度、催化剂浓度和床层压力及温度的良好分布，进料气体与悬浮在浆液中的固体催化剂需要保持良好的接触来避免偏流、沟流现象的出现，因此进料气体的分布是否均匀对气液固三相浆态床反应器操作的稳定性影响很大。进料分布器是浆态床反应器的重要构件，任何一个浆态床反应器均需通过进料分布器来保证气液固三相的良好接触，以提高产品收率和保证催化剂处于良好的流动状态。现有的浆态床反应器所采用的气体分布器有孔板式分布器、填充式分布器、烧结金属板分布器、喷嘴分布器以及管式分布器等多种型式。

公开号为CN1600413A的专利公开了一种用于三相浆态床反应器的气体分布器，该分布器通过与反应器内径相同的假板构造了一个气室，由多根气体上升管为气体分布管组供气，气体分布管组上有多个开口垂直向下的喷嘴。该气体分布器可减少反应器底部催化剂的沉积，但是不能较好地解决反应器内气体均匀分布的问题。

公开号为CN105056844A的专利公开了一种乙炔加氢制乙烯浆态床的气体分布器及其应用，该分布器通过隔板与反应器封头组成气室，由隔板上安装的气体上升管为气体分布器供气，气体分布器是两组斜向交叉、所在平面与水平面间的夹角为锐角、中央连通的气体分布管组，气体分布管组上分布有向斜下方开口和垂直向下开口的喷嘴。该气体分布器可实现反应器内气体均匀分布，但是不能较好地解决反应器底部催化剂的沉积的问题。

公开号为CN104826558A的专利公开了一种用于乙炔选择性加氢制乙烯的浆态床反应器及反应系统，该浆态床反应器的下方设置气体分布器，该分布器由中心导气管为气体分布器供气，气体分布器包括了处于同一水平面的多个同心环形气体分布管，环形气体分布管底部开孔。该气体分布器可实现反应器内气体均匀分布，但是不能较好地解决气流压力不稳定或者供气中断时催化剂堵塞气体分布器气孔的问题。

鉴于此，特提出本实用新型。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种气体分布器，以缓解现有的气体分布器存在的气体分布不均匀，反应器底部催化剂沉积以及气流压力不稳定或者供气中断时催化剂堵塞气体分布器等问题。

本实用新型的第二目的在于提供一种包括所述的气体分布器的三相浆态床反应器，结构简单合理，易于安装制造，气体分布均匀，能够有效避免催化剂在反应器底部的沉积，减缓催化剂在底壁的磨损，并能有效防止气流压力不稳定或供气中段时的堵塞、逆流等问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

根据本实用新型的一个方面，本实用新型提供一种气体分布器，包括进气管、多根气体分布支管、多组气体分布环管和气体喷管；

所述气体分布支管的一端为盲端，另一端与所述进气管连通，所述气体分布环管的两端分别与两个所述气体分布支管连接；

所述气体分布支管和气体分布环管上均设置有多个排气孔，所述排气孔上连接有开口向下的气体喷管，所述气体喷管分别外凸于所述气体分布支管和气体分布环管的外壁。