[实用新型]一种磁微流控精选机及其成套选矿设备有效

专利信息
申请号: 201721449962.0 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN207056767U 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 张承臣;李恒盛;郑德亮;王超;孙士新;朱东方;佟德君;骆铁楠 申请(专利权)人: 沈阳隆基电磁科技股份有限公司
主分类号: B03C1/02 分类号: B03C1/02
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地址: 113122 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁微流控 精选 及其 成套 选矿 设备
【说明书】:

技术领域

实用新型属于磁性分离技术领域,具体涉及一种磁微流控精选机及其成套选矿设备,其属于新型智能电磁分离设备。

背景技术

随着铁矿市场的过剩和近一段时间甚至长期低迷的铁矿走势。对于各大选矿厂来说,改善选矿工艺,降低铁精粉的生产成本成为亟待解决的问题。

对于降低铁精粉生产成本目前可以通过开采高品位原矿或改善选矿工艺来实现。由于国内矿山普遍贫矿,富矿极少。对于国内绝大部分选厂而言开采高品位原矿这一途径几乎是不能实现的,所以只能通过提升选矿工艺来降低铁精粉的生产成本。而选矿工艺又可通过“多碎少磨”或“少磨多选”等途径来进行改善,达到降低生产成本的目的。

对于像磁选柱、淘洗机等传统磁重选设备虽然具有比较可观的品位提升能力,但是在分选过程中依然不能很好的控制夹杂和用水量问题。最终导致在提高提品幅度时会产生大量的跑尾,使很多高品位磁性颗粒也进入到尾矿中。同时因为分选过程粗糙不够精准,进而导致用水量大。并且这些设备自动化水平很低需要大量的人力去维护调节,跑尾高、回收率低、用水量大、需要大量人力等缺点都增大了铁精粉的生产成本。

综上所述,为了实现提升选矿工艺,降低铁精粉的生产成本,急需一种跑尾低、品位提升幅度高、回收率高、耗水量很小、自动化程度高的大型品位提升设备。

实用新型内容

为了解决上述问题,本实用新型人经过多次设计和研究,提出了一种磁微流控精选机及其成套选矿设备。其用于选矿厂对磁性矿进行分选,具有提品幅度高、回收率高、处理量大、用水量低、自动化程度高等优点。

依据本实用新型的第一技术方案,提供一种磁微流控精选机,其采用环周给矿及中心溢流尾矿的技术,所述磁微流控精选机包括分选系统,分选系统包括给矿槽1、溢流筒4、分选筒5和磁系6,分选筒5的上部设置溢流筒4,给矿槽1设置在溢流筒4的顶部,给矿槽1将矿浆沿分选筒5内壁环周给入,尾矿从中心设置的溢流筒4向上溢流出。

所述溢流筒4的下沿深入分选筒5;溢流筒4的下沿探深的范围是从连接管14底部直至出水口9,具体距离按需求决定。

优选地,所述溢流筒4上部环周设置一个或多个内排矿口12,在分选筒5壁上与内排矿口12对应的位置环周设置一个或多个外排矿口13,内排矿口12与外排矿口13之间通过连接管14连接。

优选地,所述内排矿口12、外排矿口13和连接管14的形状为矩形。所述给矿槽1内部设置一个缓冲槽10,缓冲槽10外围设置一个或多个同轴嵌套的缓冲围板11。在所述缓冲围板11上根据实际需要选择设置或不设置过流孔,过流孔的形状和大小也按具体需求设置,选择性设置缓冲围板11。

更优选地,所述缓冲槽10的底部与溢流筒4上沿平齐,或者沉入溢流筒4内部或高于缓冲围板11上沿。分选筒5顶部设置有上传感器15,分选筒5底部锥体上设置下传感器18,上传感器15的探头或者安装连通管探入到溢流筒4内部。给水管7及精矿出口19上均设置有手动、电动或气动阀门,阀门与磁系6控制柜21、上传感器15、下传感器18共同构成本实用新型的智能调控系统。

依据本实用新型的第二技术方案,提供一种成套选矿设备,在其中使用了上述任一磁微流控精选机。

本实用新型公开的磁微流控精选机及其成套选矿设备的优势在于,解决了磁选柱、淘洗机等传统磁重选设备虽然具有比较可观的品位提升能力,但是在分选过程中依然不能很好的控制夹杂和用水量大的缺点。本实用新型通过精确控制磁场和水流实现了精准分选。能够更有效的精确分离磁性颗粒和杂质,带来品位更高的精矿及更高的回收率。同时本实用新型自动化程度高用水量小,能够为选厂更大的降低选矿成本。进一步地,本实用新型结构简单、设计合理,填补了此类磁重选设备的空白,值得广泛的推广应用。

附图说明

图1为依据本实用新型的磁微流控精选机的原理示意图。

图2为依据本实用新型的磁微流控精选机的结构剖视示意图。

图3为依据本实用新型的磁微流控精选机的控制柜外观示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。另外地,不应当将本实用新型的保护范围仅仅限制至下述具体结构或部件或具体参数。

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