[实用新型]面膜结构有效
| 申请号： | 201721461881.2 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN208852041U | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 周旻升;周俊旭;谢昌卫 | 申请（专利权）人： | 森田生医股份有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/02 | 分类号： | A61K8/02;A61K8/88;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 | 代理人： | 余功勋 |
| 地址： | 中国台湾彰化县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 敷料 附加层 基底层 面膜 大气压等离子体 本实用新型 活化处理 皮肤弹性 接合 敷料层 交联剂 肌肤 渗入 停留 | ||
【权利要求书】：
1.一种面膜结构，其特征在于，包括：
表面经过大气压等离子体活化处理的基底层；
包含γ-PGA且通过交联剂接合于所述基底层的附加层；以及
包含敷料的敷料层，位于所述附加层上，
其中，所述敷料还渗入位于所述基底层与所述附加层中。
2.根据权利要求1所述的面膜结构，其特征在于，所述基底层的厚度为0.2至0.5mm。
3.根据权利要求1所述的面膜结构，其特征在于，所述基底层的表面具有凹凸形状。
4.根据权利要求3所述的面膜结构，其特征在于，所述附加层具有对应于所述基底层的凹凸形状。
5.根据权利要求4所述的面膜结构，其特征在于，所述敷料位于所述基底层和所述附加层具有的凹凸形状的凹部中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于森田生医股份有限公司，未经森田生医股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721461881.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：便携式防交叉感染痰液收集器
- 下一篇：一种洗发水原材料的分类加热装置
