[实用新型]定位稳定的转台有效
申请号: | 201721468272.X | 申请日: | 2017-11-07 |
公开(公告)号: | CN207387073U | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 林广祝 | 申请(专利权)人: | 玉环卓越制动器有限公司 |
主分类号: | B23Q1/25 | 分类号: | B23Q1/25;B23Q16/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 317600 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 定位 稳定 转台 | ||
1.一种定位稳定的转台,包括基座和旋转盘,其特征在于:所述旋转盘的外圆周面上设置有定位槽,所述基座上设置有与定位槽配合的定位块,所述基座上设置有驱动定位块挤压或远离定位槽的驱动机构。
2.根据权利要求1所述的定位稳定的转台,其特征在于:所述驱动机构位于基座的侧面上,所述驱动机构与定位块之间连接有导向杆。
3.根据权利要求2所述的定位稳定的转台,其特征在于:所述驱动机构为气缸、液压缸或直线电机。
4.根据权利要求1所述的定位稳定的转台,其特征在于:所述驱动机构位于基座朝向旋转盘一侧的面上。
5.根据权利要求1所述的定位稳定的转台,其特征在于:所述定位槽设置有若干个,所述若干个定位槽沿圆周均匀分布,所述驱动机构设置有若干个,若干个驱动机构沿圆周均匀分布。
6.根据权利要求1所述的定位稳定的转台,其特征在于:所述定位槽包括固定槽和导向槽,所述导向槽位于固定槽的外侧,导向槽的侧壁倾斜设置。
7.一种定位稳定的转台,包括基座和旋转盘,其特征在于:所述旋转盘的外圆周面上设置有定位凸起,所述基座上设置有定位件,所述定位件上设置有和定位凸起配合的定位凹槽,所述基座上设置有驱动定位件挤压或远离定位凸起的驱动机构。
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