[实用新型]一种挡墙结构

权利要求书

1.一种挡墙结构，包括：墙本体，内部以灌浆材料填实，具有第一接触面及第二接触面，所述第一接触面与地面相对侧接触，所述第二接触面与待支持边坡接触；至少一个第一支持桩，分别包括：第一延伸方向，灌浆空间，及多个出浆孔；所述第一支持桩与所述墙本体相连接沿所述第一延伸方向通过所述第一接触面至地面下方；所述灌浆空间以灌浆材料填实；所述多个出浆孔排出灌浆材料形成多个根部，用于增加所述第一支持桩与地层的摩擦力，所述根部扩散于地层，与土壤混合形成基座，用于限制地层位移，改良地质。

2.如权利要求1所述的挡墙结构，其特征在于，挡墙结构还包括：至少一个钻孔空间；所述钻孔空间用以置放所述第一支持桩。

3.如权利要求1所述的挡墙结构，其特征在于，所述出浆孔排出灌浆材料形成的多个根部扩散在地层中，与土壤混合形成基座。

4.如权利要求1所述的挡墙结构，其特征在于，所述第一支持桩包括：多个出浆缝；所述多个出浆缝设于所述第一支持桩于地层的末端处，多个出浆孔用于排出灌浆材料，形成多个根部。

5.如权利要求1所述的挡墙结构，其特征在于，所述墙本体还包括墙身，所述第一支持桩从所述墙身沿所述第一延伸方向通过所述第一接触面至地面下方固定。

6.如权利要求1或5所述的挡墙结构，其特征在于，所述墙本体还包括基底，所述第一支持桩从所述基底沿第一延伸方向通过所述第一接触面至地面下方固定。

7.如权利要求1所述的挡墙结构，其特征在于，所述第一支持桩间隔适当距离排列，通过所述第一接触面至地面下方固定。

8.如权利要求1所述的挡墙结构，其特征在于，所述第一支持桩以矩阵排列方式通过所述第一接触面至地面下方固定。

9.如权利要求8所述的挡墙结构，其特征在于，所述第一支持桩排列形成的矩阵较长边与所述第一接触面所接触的边坡坡向略呈垂直，用以加强限制地层在坡向的位移。

10.如权利要求1或8所述的挡墙结构，其特征在于，所述挡墙结构还包含：至少一个固定件；其中，所述第一支持桩为多个；其中，所述固定件，用以限制所述第一支持桩间的相对位置，且加强固定所述第一支持桩与地层的相对位置。

11.一种挡墙结构，包含：墙本体，内部以灌浆材料填实，具有第一接触面及第二接触面，所述第一接触面与地面相对侧接触，所述第二接触面与待支持的边坡接触；至少一个第一支持桩，分别包含：第一延伸方向，灌浆空间，及多个出浆孔；所述第一支持桩与所述墙本体相连接沿所述第一延伸方向通过所述第一接触面至地层；所述灌浆空间以灌浆材料填实；所述多个出浆孔排出灌浆材料形成多个根部，增加所述第一支持桩与地层的摩擦力，用于限制地层位移，改良地质；至少一个第二支持桩，具有第二延伸方向，所述第二支持桩与所述墙本体相连接沿所述第二延伸方向设置，限制所述第二延伸方向邻近地层的位移。

12.如权利要求11所述的挡墙结构，其特征在于，所述第二支持桩还包括灌浆空间，所述灌浆空间以灌浆材料填实。

13.如权利要求11所述的挡墙结构，其特征在于，所述灌浆通过多个出浆孔排出灌浆材料形成根部扩散，与地层结合形成基座。

14.如权利要求11所述的挡墙结构，其特征在于，所述第一支持桩一端与所述第二支持桩一端在墙本体内部以机构性连接，用于加强整体挡墙结构的强度。

15.如权利要求11所述的挡墙结构，其特征在于，所述第二延伸方向由所述墙本体内部指向所述第二接触面接触的边坡地层；所述第二支持桩沿所述第二延伸方向通过所述第二接触面，设置于边坡地层。