[实用新型]水处理装置及其光触媒处理机构

权利要求书

1.一种光触媒处理机构，其特征在于，包括：

容器，用于储水，所述容器的侧壁上开设有贯穿所述容器的内壁与外壁的进水口及出水口，所述容器上还开设有排气口，所述排气口贯穿所述容器的内壁与外壁，所述排气口用于排气；

紫外线产生组件，包括控制器及紫外灯，所述控制器设置于所述容器外，所述紫外灯收容于所述容器内，所述控制器用于控制所述紫外灯的开闭；

进气管，一端伸入所述容器内，所述进气管上开设有进气口，所述进气口用于向所述容器内通入反应气体；及

光触媒组件，包括载体及光催化材料，所述光催化材料负载于所述载体上，所述光催化材料用于起催化作用，使从所述进气管通入的反应气体与容器内的水的水分子反应生成具有氧化力的羟基自由基。

2.根据权利要求1所述的光触媒处理机构，其特征在于，所述载体为泡沫镍网，所述光催化材料为纳米二氧化钛，所述纳米二氧化钛通过电沉积方式负载形成在所述泡沫镍网上，形成固载型纳米二氧化钛光触媒组件。

3.根据权利要求2所述的光触媒处理机构，其特征在于，沉积有所述纳米二氧化钛的所述泡沫镍网将所述容器分隔成第一腔体及第二腔体，所述进气管的一端伸入所述第一腔体内，所述进气管上开设有多个间隔设置的进气口，所述紫外灯位于所述第二腔体内。

4.根据权利要求3所述的光触媒处理机构，其特征在于，所述进气管的一端伸入所述泡沫镍网中使至少一所述进气口位于泡沫镍网的内部；和/或

所述进气口位于所述进水口的下方。

5.根据权利要求3所述的光触媒处理机构，其特征在于，所述进水口开设于所述第一腔体的侧壁的下方，所述出水口开设于所述第二腔体的侧壁的上方。

6.根据权利要求2所述的光触媒处理机构，其特征在于，所述光触媒组件的数量为两个，两个所述光触媒组件将所述容器分隔成第一腔体、第二腔体及第三腔体，所述第二腔体位于所述第一腔体与所述第三腔体之间，所述进气管包括第一进气管及第二进气管，所述第一进气管的一端伸入所述第一腔体内，所述第二进气管的一端伸入所述第三腔体内，所述紫外灯位于所述第二腔体内。

7.根据权利要求6所述的光触媒处理机构，其特征在于，所述进水口开设于所述第一腔体的侧壁的下方，所述出水口开设于所述第三腔体的侧壁的上方。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的光触媒处理机构，其特征在于，所述紫外线产生组件还包括套管及仪表，所述紫外灯为低压紫外灯，所述套管位于所述容器内且套设于所述紫外灯外，所述仪表位于所述容器外。

9.根据权利要求1至7任意一项所述的光触媒处理机构，其特征在于，还包括排水阀，所述排水阀设置于所述容器的底部。

10.一种水处理装置，其特征在于，包括：

水箱；

增压泵，与所述水箱相连通；及如权利要求1至9中任意一项所述的光触媒处理机构，所述增压泵用于将所述水箱中的水泵入所述光触媒处理机构中的容器内。