[实用新型]一种半导体晶片喷砂加工除尘装置

权利要求书

1.一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，包括排风除尘管路(1)和水循环系统，所述排风除尘管路(1)下端设有进风口(7)，排风除尘管路(1)的顶端开口为出风口(2)，进风口(7)连接喷砂机排风系统，排风除尘管路(1)包括由下至上的四级滤网，排风除尘管路(1)底部设有初级沉淀池(9)；

所述水循环系统包括多级沉淀池，多级沉淀池入口端连接所述初级沉淀池(9)，多级沉淀池出口端连接多孔喷淋管(18)，多孔喷淋管(18)设置在所述四级滤网上部。

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，所述四级滤网包括孔径依次缩小的一级过滤网(6)、二级过滤网(5)、三级过滤网(4)、四级过滤网(3)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，所述一级过滤网(6)为大孔径过滤网，孔径为0.3mm；所述二级过滤网(5)孔径为0.2mm；所述三级过滤网(4)孔径为0.15mm；所述四级过滤网(3)孔径为0.1mm。

4.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，所述初级沉淀池(9)设有初级清砂口(8)和出水口(10)，出水口(10)连接多级沉淀池入口端。

5.根据权利要求1所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，所述多级沉淀池包括二级沉淀池(11)、三级沉淀池(12)、清水池(13)，二级沉淀池(11)、三级沉淀池(12)、清水池(13)之间相互隔离。

6.根据权利要求5所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，所述二级沉淀池(11)底端均设有二级清砂口(14)，三级沉淀池(12)底端均设有三级清砂口(15)。

7.根据权利要求5所述的一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，其特征在于，所述清水池(13)通过上水管(17)连接多孔喷淋管(18)，上水管(17)上设有水泵(16)。