[实用新型]掩模版冷却装置以及光刻机台

权利要求书

1.一种掩模版冷却装置，其特征在于，包括采集单元、冷却单元和控制单元，所述控制单元分别与所述采集单元和所述冷却单元通讯连接；所述采集单元用于获取曝光过程中掩模版上具有曝光区域的一表面的温度信息并反馈给所述控制单元；所述冷却单元设置在所述掩模版的一侧并用于对所述具有曝光区域的表面喷射气体；所述控制单元用于根据所述温度信息调整所述冷却单元喷射气体时的喷射状态。

2.如权利要求1所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述喷射状态包括目标喷射压力；所述控制单元用于根据所述温度信息以及所述掩模版的温度与掩模倍率之间的映射关系，获取所述气体的目标喷射压力，所述冷却单元用于向所述具有曝光区域的表面喷射具有所述目标喷射压力的所述气体。

3.如权利要求2所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述控制单元获取所述目标喷射压力时，用于根据所述温度信息以及所述掩模版的温度与掩模倍率之间的映射关系获取所述掩模版的目标掩模倍率，并用于根据所述目标掩模倍率以及所述掩模版的掩模倍率与喷射压力之间的另一映射关系获取所述目标喷射压力。

4.如权利要求3所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述掩模版设置于一承板台上；所述冷却单元包括输送管道、空气压缩机以及多个喷嘴；所述输送管道设置于所述承板台内部；所述输送管道的一端与所述多个喷嘴相连，另一端与所述空气压缩机相连。

5.如权利要求4所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述输送管道上设置有与所述控制单元通讯连接的减压阀，所述控制单元用于根据所述温度信息并通过所述减压阀调整所述多个喷嘴喷射气体时的目标喷射压力。

6.如权利要求1所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述喷射状态包括目标温度；所述控制单元用于根据所述温度信息以及所述掩模版的温度与掩模倍率之间的映射关系，获取所述气体的目标温度，所述冷却单元用于向所述具有曝光区域的表面喷射具有所述目标温度的所述气体。

7.如权利要求6所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述掩模版设置于一承板台上；所述冷却单元包括输送管道、制冷设备以及多个喷嘴；所述输送管道设置于所述承板台内部，所述多个喷嘴与所述输送管道相连，所述制冷设备与所述输送管道热连接以调整多个喷嘴喷射气体时的目标温度。

8.如权利要求4或7所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述承板台具有一个贯通的凹槽，通过该凹槽能够看到所述具有曝光区域的表面，且所述多个喷嘴并排设置于所述凹槽的槽壁上并对准所述具有曝光区域的表面。

9.如权利要求8所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述多个喷嘴中的一部分喷嘴用于吸入另一部分喷嘴喷射的所述气体。

10.如权利要求1-7中任一项所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述采集单元为非接触式温度传感器，且所述非接触式温度传感器设置于承板台上，所述承板台上放置有所述掩模版。

11.如权利要求1-7中任一项所述的掩模版冷却装置，其特征在于，所述曝光区域为金属铬层。

12.一种光刻机台，其特征在于，包括用于放置掩模版的承板台，并还包括如权利要求1-11中任一项所述的掩模版冷却装置。