[实用新型]一种真空镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括机身，所述机身顶部设有镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有电磁铁，所述电磁铁两侧均设有连接杆，所述连接杆外壁套设有套环，所述连接杆底端设有限位块，所述连接杆之间设有活动杆，所述活动杆顶部设有磁石。本实用新型通过设有变频器、电磁铁、磁石和与连接杆活动连接的活动杆，利用变频器控制电磁铁接入线路中电流的大小调节电磁铁磁场的强度，从而对磁石进行不同力度的吸附，活动杆两端的套环在连接杆外壁进行上下移动，使固定夹具进行上下移动，改变了传统机械结构连接的方式，无需与外部机械结构进行对接，保证了镀膜室真空密封的完整性，提高了产品镀膜的质量。

技术领域

本实用新型涉及机械领域，特别涉及一种真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机主要指一类在较高真空度下对工件进行镀膜的设备，其中，镀膜的技术具有很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的对象被称为工件(或基片)，需要镀在工件上的材料被称为靶材，如硅靶、铌靶、铝靶、钛靶等。工件与靶材同在真空腔中。在真空条件下，通入一定气压的氩气，氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜。

目前的真空镀膜机在镀膜过程中内部固定夹具和基片的移动机构大多结构复杂，需要与外部传动机构作机械性连接，容易导致镀膜室的密封性能不够，会使得镀膜的效果不佳，影响产品的品质。

因此，发明一种真空镀膜机来解决上述问题很有必要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜机，包括机身，所述机身顶部设有镀膜室，所述镀膜室内腔顶部设有电磁铁，所述电磁铁两侧均设有连接杆，所述连接杆外壁套设有套环，所述连接杆底端设有限位块，所述连接杆之间设有活动杆，所述活动杆顶部设有磁石，所述活动杆底部设有马达，所述马达输出轴底端设有固定夹具，所述镀膜室内腔底部设有喷射口，所述喷射口底部设有加热器，所述加热器一侧设有抽气管，所述镀膜室底部设有固件室，所述固件室内腔设有真空泵，所述真空泵一侧设有镀膜物质室，所述镀膜物质室顶部设有加热管，所述镀膜物质室一侧设有蓄电池，所述蓄电池顶部设有控制主机，所述控制主机一侧设有变频器，所述机身侧壁设有控制面板，所述控制面板上设有触控屏。

优选的，所述连接杆、套环和限位块的数量均设置为2个且通过活动杆对称设置。

优选的，所述活动杆通过套环与连接杆活动连接，所述连接杆顶端与镀膜室内腔顶部固定连接。

优选的，所述电磁铁与变频器电性连接 ，所述变频器、加热管、加热器、马达、真空泵和触摸屏均与控制主机电性连接，所述变频器型号设置为hlp-sk180。

优选的，所述抽气管贯穿镀膜室底部延伸至固件室内与真空泵连接，所述加热管设置于加热器正下方，所述镀膜物质室、蓄电池、变频器和控制主机均设置于固件室内腔。

优选的，所述电磁铁磁极方向与磁石磁极方向相同。

本实用新型的技术效果和优点：通过设有变频器、电磁铁、磁石和与连接杆活动连接的活动杆，利用变频器控制电磁铁接入线路中电流的大小调节电磁铁磁场的强度，从而对磁石进行不同力度的吸附，活动杆两端的套环在连接杆外壁进行上下移动，使固定夹具进行上下移动，改变了传统机械结构连接的方式，无需与外部机械结构进行对接，保证了镀膜室真空密封的完整性，提高了产品镀膜的质量，通过设有触控屏和控制主机，有利于操作人员对机器进行具体程序的操作，降低了使用难度，通过设有马达，可对固定夹具进行旋转，调整固定夹具上基片原料的角度，便于进行镀膜工作。

附图说明